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MDA杂化膜的制备及其非线性光学性能

作 者: 郭强
导 师: 胡立江
学 校: 哈尔滨工业大学
专 业: 无机化学
关键词: 有机-无机光学杂化材料 生色团 自由基聚合 MDA 二阶非线性光学系数
分类号: TB383.2
类 型: 硕士论文
年 份: 2007年
下 载: 35次
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内容摘要


二阶非线性光学(NLO)聚合物材料由于在倍频和电光器件方面显示出良好的应用前景而引起人们很大的重视。其中结合了有机聚合物和无机材料优点的有机-无机杂化材料,更是受到极大的重视。本文设计并合成了一种新型的有机生色团,并利用自由基反应合成出NLO前驱体硅氧烷染料(ASD),最后用溶胶-凝胶法制备出新型的键合型γ—(甲基丙烯酰氧)丙基倍半硅氧烷二阶非线性光学杂化材料(MDA),通过红外光谱、质谱、紫外可见光谱证实了其结构的存在。对实际反应中可能存在的三种自由基反应进行了分析,结合对自由基反应的动力学研究,讨论了温度、引发剂含量等因素对自由基聚合反应的动力学影响,最终确立了最佳的反应条件,有效地限制了副反应的发生。根据Marker条纹曲线分析了极化电压、极化温度、极化时间等因素对MDA膜极化效果的影响规律,通过极化因数(极化电压、极化温度和极化时间)的正交试验设计结果,确定了最佳的极化工艺。通过MDA膜的差热分析和热失重测试、紫外-可见光谱的透光率和吸光值测试,以及原子力显微镜和Maker条纹测量(SHG),可知MDA具有优良的热性能和光学性能:具有较高玻璃化转变温度,5%热失重温度达300℃以上;材料的透明性较好,解决了二阶非线性材料透明性差的缺点;生色团的含量达23×1020个/cm3,取向序参数为0.41;膜的表面性能很均匀,最大起伏仅为2.77nm,符合光学材料使用要求。

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中图分类: > 工业技术 > 一般工业技术 > 工程材料学 > 特种结构材料
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