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RTV憎水性检测及影响因素的研究

作 者: 王俊杰
导 师: 律方成
学 校: 华北电力大学(河北)
专 业: 高电压与绝缘技术
关键词: 室温硫化硅橡胶 憎水性 静态接触角 检测方法 影响因素
分类号: TM216
类 型: 硕士论文
年 份: 2010年
下 载: 112次
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内容摘要


目前常用RTV防污涂料增加瓷绝缘子的防污闪能力,RTV涂层的憎水性直接影响了污闪电压。为了确保安全的电力传输,有必要对RTV涂层在不同情况下的憎水性丧失和恢复情况进行研究。本文研究了液滴体积和拍照延迟时间对静滴法测量RTV静态接触角的影响。同时研究了酸、碱、盐溶液浸泡、电晕以及不同温湿度条件下RTV的憎水性状况。试验结果表明,在选择静滴法测量RTV静态接触角时,应选用同一体积的水珠;随溶液浸泡时间的增加,样本的憎水性下降,溶液的酸、碱性越强样本的憎水性下降越快。

全文目录


中文摘要  4
英文摘要  4-7
第一章 引言  7-21
  1.1 研究的目的和意义  7-8
  1.2 污闪原理及其防治措施介绍  8-14
  1.3 防污闪涂料 RTV 及其憎水性概述  14-17
    1.3.1 有机硅发展简介  14-15
    1.3.2 室温硫化硅橡胶的种类、组成和制备  15-16
    1.3.3 RTV 憎水性概述  16-17
  1.4 国内外研究现状  17-19
    1.4.1 RTV 憎水性检测方法的研究  17-18
    1.4.2 RTV 憎水性影响因素的研究  18-19
  1.5 存在的主要问题  19-20
  1.6 本论文的主要工作  20-21
第二章 对 RTV 静态接触角测量方法——静滴法的研究  21-27
  2.1 试验介绍  21-22
  2.2 基于拟合的静态接触角测量方法  22-24
    2.2.1 背景介绍  22-23
    2.2.2 圆拟合算法  23
    2.2.3 椭圆拟合算法  23-24
  2.3 试验结果及分析  24-26
    2.3.1 实际拍摄的水珠图像  24-25
    2.3.2 水珠体积和拍照时间对静态接触角测量的影响  25-26
  2.4 小结  26-27
第三章 溶液浸泡对 RTV 憎水性影响的研究  27-41
  3.1 酸溶液对 RTV 憎水性影响试验  27-30
    3.1.1 试验介绍  27
    3.1.2 试验结果及分析  27-30
  3.2 碱溶液对 RTV 憎水性影响试验  30-34
    3.2.1 试验介绍  30
    3.2.2 试验结果及分析  30-34
  3.3 盐溶液对 RTV 憎水性影响试验  34-40
    3.3.1 试验介绍  34
    3.3.2 试验结果及分析  34-40
  3.4 小结  40-41
第四章 交流电晕以及温湿度对 RTV 憎水性的影响  41-47
  4.1 试验介绍  41-43
    4.1.1 试验装置介绍  41-42
    4.1.2 试验方法介绍  42-43
  4.2 交流电晕下 RTV 样本憎水性丧失情况  43-45
    4.2.1 试验现象及结果分析  43-44
    4.2.2 电晕后 RTV 涂层憎水性丧失和恢复的原因  44-45
  4.3 温湿度对RTV 样本憎水性的影响  45-46
    4.3.1 温度对RTV 样本憎水性的影响  45
    4.3.2 湿度对RTV 样本憎水性的影响  45-46
  4.4 小结  46-47
第五章 结论  47-49
参考文献  49-53
致谢  53-54
在学期间发表的学术论文和参加科研情况  54

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中图分类: > 工业技术 > 电工技术 > 电工材料 > 绝缘材料、电介质及其制品 > 绝缘子和套管
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