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微通道板化学处理工艺研究

作　者: 张正君
导　师: 皮德富；王晖
学　校: 南京理工大学
专　业: 光学工程
关键词: 微通道板 腐蚀工艺 超声清洗 SEM EDS 发射点
分类号: TN152
类　型: 硕士论文
年　份: 2008年
下　载: 76次
引　用: 1次
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内容摘要


微通道板(MCP)是一种先进的二维电子倍增器,是微光像增强器的核心部件,化学腐蚀处理是微通道板制造的关键工艺。研究MCP芯、皮料玻璃的腐蚀工艺参数,选取合适的化学腐蚀和清洗工艺,可以获得内壁光滑、低噪声、高增益MCP,同时能减少发射点、黑点、不均匀等视场缺陷,能够有效提高产品的良品率。本文利用高分辨率光学显微镜、扫描电子显微镜研究了微通道板的显微形貌和结构,采用X射线能谱仪分析腐蚀进程中通道壁的成分变化。分析和研究了微通道板化学腐蚀的时间、超声波清洗等工艺参数和MCP性能的关系,提出了有效的微通道板腐蚀工艺方案,设计出了减少发射点的工艺参数。

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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 真空电子技术 > 光电器件、光电管 > 光电倍增管
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