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GaN LED器件外延膜的激光剥离的研究
作 者: 黄瑾
导 师: 刘宝林
学 校: 厦门大学
专 业: 凝聚态物理
关键词: GaN 激光剥离 蓝宝石衬底抛光 衬底加热
分类号: TN312.8
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
下 载: 334次
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内容摘要
GaN及其化合物是直接带隙半导体材料,它的禁带宽度从1.9eV~6.2eV连续可调,发光范围覆盖了从红色到紫外的光谱,GaN材料是一种理想的短波长发光材料。它主要用于制作蓝、紫、紫外发光二极管(LED),激光器(LD)、紫外(UV)光电探测器等光电子器件。GaN和Si之间的晶片键合和激光剥离工艺可以很方便的实现不同材料的集成,为GaN基材料的外延生长、器件的工艺制作提供一个新的研究方向。本文利用键合和激光剥离技术,实现了φ2英寸GaN LED器件外延薄膜的激光剥离,并且实现蓝宗石衬底的重新利用。通过理论计算优化激光剥离的参数,利用衬底加热的方式实现降低阈值密度快速的激光剥离。目前国内外还没有这样的报道。并获得了以下的研究结果。(1)实现2英寸GaN LED外延膜的大面积完整剥离,剥离后的表面非常完整,没有裂纹。剥离后的样品保留了InGaN/GaN有源层结构。剥离后表面粗糙度增大,一方面是由于在剥离过程中GaN薄膜的热分解引起的;另一方面是由于剥离开的表面原来与蓝宝石相连,蓝宝石和GaN的晶格失配较大。(2)在剥离掉的蓝宝石(α-A12O3)衬底上成功的外延生长InGaN/GaN MQW'sLED器件结构,实现了蓝宝石衬底的重复利用,并与同一生长条件下有蓝宝石衬底上的GaN LED对比。对比结果表明,剥离掉的蓝宝石衬底上重新生长的GaN LED外延膜比较后者,PL峰值波长发生蓝移,这是由于外延生长前对剥离掉的蓝宝石进行正面抛光处理,衬底正面抛光使GaN LED外延膜应力发生释放。(3)理论上分析压了强和GaN分解温度的关系,提出一种可以通过降低气压实现快速、低功率激光剥离GaN基外延膜的方法。(4)通过加热衬底温度,减小激光剥离的阈值功率密度,放大光斑,实现快速的激光剥离。本论文得到国家自然科学基金60276029和福建省自然科学基金A0210006的资助。
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全文目录
摘要 4-5 Abstract 5-12 第一章 绪论 12-28 1.1 引言 12 1.2 GaN材料的晶体结构与性质 12-15 1.3 GaN基材料的生长 15-16 1.4 GaN材料键合与激光剥离技术的研究进展 16-20 1.4.1 GaN与Si片的键合技术 16-17 1.4.2 GaN基外延层膜的激光剥离 17-18 1.4.3 GaN基LED激光剥离 18-19 1.4.4 激光剥离技术在激光器中的应用 19-20 1.5 材料表征 20-23 1.5.1 X射线双晶衍射技术 20-21 1.5.2 原子力显微镜(AFM) 21-22 1.5.3 拉曼测试 22-23 1.5.4 PL测试 23 1.6 本论文工作的内容和创新 23-25 参考文献 25-28 第二章 降低气压快速激光剥离GaN基外延膜的理论分析 28-35 2.1.引言 28 2.1.GaN分解热力学分析:分解温度与压强的关系 28-34 参考文献 34-35 第三章 2英寸GaN LED外延膜的激光剥离及其衬底的重复利用 35-49 3.1 引言 35 3.2 2英寸GaN LED外延膜激光剥离的实验过程 35-43 3.2.1 清洗 36 3.2.2 激光剥离 36-39 3.2.3 剥离前后的GaN性质 39-43 3.3 在剥离后的衬底上重新生长的GaN LED性质 43-47 参考文献 47-49 第四章 GaN快速激光剥离的研究 49-70 4.1 引言 49 4.2 利用金属作为中间层实现GaN外延薄膜的转移 49-56 4.2.1 键合金属的选择 49-50 4.2.2 试验过程 50-52 4.2.3 结果与分析 52-56 4.3 利用加热衬底方式进行激光剥离的研究 56-68 4.3.1 理论分析 56-60 4.3.2 试验过程 60-62 4.3.3 试验结果 62-68 4.4 激光过程中需要注意的方面 68 4.5 小结 68-69 参考文献 69-70 第五章 结论 70-71 硕士期间发表的论文目录 71-72 研究生期间获得的奖励 72-73 致谢 73
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 半导体二极管 > 二极管:按结构和性能分 > 发光二极管
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