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LCD用AR/EMI显示窗口的膜系研制

作　者: 徐涛
导　师: 吕国强
学　校: 合肥工业大学
专　业: 精密仪器及机械
关键词: AR/EMI ITO 增透膜电磁屏蔽膜系设计
分类号: TN873.93
类　型: 硕士论文
年　份: 2009年
下　载: 75次
引　用: 1次
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内容摘要

在航空航天等军用领域中,存在强光和电磁干扰等环境影响因素,为了使显示器能够在这种恶劣环境下稳定可靠工作,需要对显示器进行AR/EMI(减反射/电磁屏蔽)加固。AR/EMI显示窗口是空间平板显示器的重要零部件,它主要由玻璃基片和光学薄膜组成。其中光学薄膜是其功能部分,由减反射膜系和ITO电磁屏蔽层构成,具有减小光线反射和实现电磁屏蔽的功能。本文根据课题的实际应用需要,首先论述了光学薄膜的基本原理,包括增透膜系的减反射原理、ITO透明导电膜的基本性质等,介绍了膜系的设计过程,并尝试设计了几种不同的增透膜系。针对空间平板显示器对AR/EMI的实际需求,我们最终设计了一种ITO组合多层膜系结构,通过对ITO电磁屏蔽层与AR(减反)膜系进行综合设计,并利用光学薄膜设计软件TFCalc对其结构进行了模拟仿真,结果使AR/EMI显示窗口在方块电阻为12Ω/的同时可见光部分的剩余平均反射率达到了0.73%,解决了单一ITO透明导电膜在可见光区域内透过率普遍较低的问题,从而解决了显示终端的眩光效应,克服了环境光对操作者眼睛造成的不适,并增强了显示器的电磁屏蔽性能。此外,本文对实际样片进行了测试,完成了对设计方案的验证。定性的介绍了薄膜的镀制方法和工艺流程,并做了相关的误差分析。

全文目录

摘要  5-6
Abstract  6-7
致谢  7-13
第一章绪论  13-21
  引言  13
  1.1 平板显示技术概述  13-15
  1.2 光学薄膜的发展及应用  15-17
  1.3 ITO 透明导电膜的发展状况  17-19
  1.4 主要研究内容  19-21
第二章光学薄膜原理及其设计的理论基础  21-34
  2.1 光学薄膜的基本原理  21-25
    2.1.1 光的波动性  21
    2.1.2 薄膜干涉现象  21-25
  2.2 光学薄膜的干涉特征矩阵  25-30
    2.2.1 单层薄膜的干涉特征矩阵  25-28
    2.2.2 多层薄膜的干涉特征矩阵  28-30
  2.3 ITO 透明导电膜的基本原理  30-34
    2.3.1 ITO 薄膜的光学性质  30-31
    2.3.2 ITO 薄膜的电学性质  31-32
    2.3.3 电磁屏蔽原理及 ITO 薄膜对屏蔽性能的影响  32-34
第三章 AR/EMI 显示窗口的膜系设计  34-48
  3.1 增透膜原理  34-35
  3.2 组合膜系设计的思路  35-40
    3.2.1 单层增透膜  35-37
    3.2.2 双层增透膜  37-38
    3.2.3 三层增透膜  38-40
  3.3 ITO 组合多层增透膜系的设计  40-48
第四章 AR/EMI 显示窗口样片测试  48-57
  4.1 AR/EMI 样片的透射率与反射率测试  48-49
  4.2 AR/EMI 样片的膜厚测试  49-54
    4.2.1 椭圆偏振光谱仪原理  49-51
    4.2.2 测试薄膜厚度的分析  51-54
  4.3 ITO 膜层的方阻测试及其电磁屏蔽效率计算  54-57
    4.3.1 ITO 膜层的方块电阻的测试  54-55
    4.3.2 ITO 膜层的电磁屏蔽效率  55-57
第五章光学薄膜的制备技术及工艺研究  57-68
  5.1 薄膜的制备技术  57-60
    5.1.1 气相沉积法  57-58
    5.1.2 真空反应蒸发法  58
    5.1.3 溶胶—凝胶法  58-59
    5.1.4 磁控溅射法  59-60
  5.2 薄膜镀制的工艺流程  60-63
  5.3 误差分析  63-68
第六章总结  68-69
参考文献  69-72
攻读硕士学位期间发表的论文  72-73

LCD用AR/EMI显示窗口的膜系研制

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