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超声喷雾热解法制备SnO_2:F薄膜及性能分析
作 者: 王东丽
导 师: 施卫
学 校: 西安理工大学
专 业: 物理电子学
关键词: 超声喷雾热解法 SnO2:F薄膜 正交实验 回归分析 SPSS软件
分类号: O484.1
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
下 载: 35次
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内容摘要
SnO2是一种宽带隙氧化物半导体材料,禁带宽度Eg=3.6-4.0eV。SnO2薄膜由于具有对可见光透过性好、紫外吸收系数大、电阻率低、化学性能稳定以及室温下抗酸碱能力强等优点,已被广泛的应用在太阳能电池、电热材料、透明电极材料以及气敏材料等方面。喷雾热解法以其设备简单、成本低、制备样品快等优点成为一种很有应用潜力的制备SnO2薄膜的方法,另外喷雾热解法在镀膜玻璃的工业化生产中有着广阔的应用领域。以SnCl4·5H20和NH4F为原料,本文采用超声喷雾热解法在石英玻璃管内壁制备掺F的二氧化锡薄膜。运用正交方法设计实验,研究了制备SnO2:F薄膜过程中的五种影响因素,如:F浓度(F% mol)、Sn浓度(Sn% mol)、酒精浓度、喷涂时间以及基底温度,对薄膜方阻和在可见光范围内的平均透过率的影响,得出最佳工艺组合为基底温度为500℃,F的浓度为2%(mol)、Sn的浓度为15%(mo1)、酒精浓度为30%(m1)、喷涂时间为15s。最后利用回归分析,建立了光透过率、方阻与F%、Sn%、酒精浓度、基底温度以及喷涂时间这五个影响因素之间的线性关系。通过实验分析了SnO2:F透明导电薄膜方阻随温度变化的实验规律,用SPSS软件拟合,得到的二次拟合曲线很好的反映了薄膜的温度随方阻变化的特性。拟合优度R2=0.883,二次拟合回归方程R=87.688+0.10t+4.25×10-5t2。
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全文目录
摘要 3-4 Abstract 4-8 1 前言 8-12 1.1 几种透明导电薄膜简介 8-10 1.1.1 ZnO薄膜 8-9 1.1.2 In_2O_3薄膜 9-10 1.1.3 SnO_2薄膜 10 1.2 论文的研究目标和主要内容 10-12 2 SnO_2导电薄膜 12-29 2.1 SnO_2薄膜特性 12-13 2.1.1 SnO_2薄膜晶体结构 12 2.1.2 SnO_2薄膜光电特性 12-13 2.1.3 SnO_2薄膜物理化学特性 13 2.2 掺杂SnO_2薄膜的导电机理 13-21 2.2.1 半导体的导电机理 13-14 2.2.2 半导体中电子的运输 14-15 2.2.3 半导体的电子散射机制 15-20 2.2.4 掺锑、氟SnO_2薄膜的导电机理 20-21 2.3 薄膜生长 21-22 2.3.1 薄膜生长的三种模式 21 2.3.2 薄膜生长的阶段 21-22 2.4 掺杂SnO_2薄膜材料的常用制备方法 22-26 2.4.1 化学气相沉积法 22-23 2.4.2 溶胶-凝胶法 23 2.4.3 喷雾热解法 23-26 2.5 SnO_2薄膜的应用 26-28 2.5.1 太阳能电池 26-27 2.5.2 光电子器件 27 2.5.3 透明电极 27-28 2.6 本章小结 28-29 3 超声喷雾热解法制备SnO_2:F透明导电薄膜 29-43 3.1 喷雾热解法制备薄膜的原理 29 3.2 实验装置 29-30 3.3 薄膜性能测试技术 30-32 3.3.1 薄膜结构和表面形貌的测量 30 3.3.2 方阻的测量 30-31 3.3.3 光透过率的测量 31 3.3.4 膜厚的测量 31-32 3.4 测试SnO_2:F薄膜方阻随温度变化的实验电路 32 3.5 正交设计方法在薄膜制备中的应用 32-36 3.5.1 正交设计方法介绍 32-34 3.5.2 正交方法设计实验 34-35 3.5.3 超声喷雾热解法制备SnO_2:F薄膜的步骤 35-36 3.6 正交方法分析实验结果 36-42 3.6.1 回归分析 39-42 3.7 本章小结 42-43 4 SnO_2:F薄膜性能研究 43-55 4.1 影响SnO_2:F薄膜性能的工艺参数 43-46 4.1.1 基底温度对薄膜光透过率和方阻的影响 43-44 4.1.2 喷涂时间对薄膜光透过率和方阻的影响 44 4.1.3 F掺杂量对薄膜光透过率和方阻的影响 44-45 4.1.4 酒精浓度对薄膜光透过率和方阻的影响 45-46 4.2 薄膜性能测试 46-48 4.2.1 发热功率测试 46-47 4.2.2 结合强度测试 47 4.2.3 化学稳定性测试 47 4.2.4 热稳定性测试 47 4.2.5 表面形貌测试 47-48 4.3 薄膜方阻-温度分析 48-53 4.3.1 SPSS软件 48-49 4.3.2 方阻为62Ω的SnO_2:F薄膜热稳定性分析 49-51 4.3.3 方阻为95Ω的SnO_2:F薄膜热稳定性分析 51 4.3.4 方阻为91Ω的SnO_2:F薄膜热稳定性分析 51-53 4.4 本章小结 53-55 5 总结 55-56 5.1 本文研究工作总结 55 5.2 未来工作展望 55-56 致谢 56-57 参考文献 57-61 附录 61
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中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学 > 薄膜的生长、结构和外延
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