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稀土掺杂GaN的第一性原理研究
作 者: 李倩倩
导 师: 郝秋艳; 李英
学 校: 河北工业大学
专 业: 材料物理与化学
关键词: GaN 密度泛函理论 稀土掺杂 电子结构 光学性质
分类号: TN304
类 型: 硕士论文
年 份: 2013年
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内容摘要
宽禁带半导体以其优异的化学和物理性质成为当前研究的热点,GaN拥有优良的光电性质以及宽的直接带隙,是研制微电子器件、光电子器件的新型半导体材料。由于稀土独特的光学和磁学性能,稀土掺杂GaN的光学性质和磁学性质的研究引起了人们广泛的兴趣。本论文利用第一性原理方法研究了稀土掺杂GaN的电子结构和光、磁学性质,具体内容如下:基于密度泛函理论(DFT)的平面波赝势方法计算了理想GaN以及分别含VN和VGa的GaN的电子结构和光学性质,计算结果表明,VN是一种施主缺陷,在p型GaN中有较低的形成能,并且在能带中引入由N-2p态和Ga-4p态杂化而成的浅施主能级;VGa是一种受主缺陷,在n型GaN中有较低的形成能,在能带中引入了三条来自N-2p态的受主能级,并且N-2p态产生自旋极化,磁矩为3。VN和VGa都使GaN的带隙增大,并且对GaN的光学性质产生一定程度的影响。基于密度泛函理论的PBE+U方法我们计算了掺杂浓度为6.25%的Ce和Pr分别掺杂GaN的电子结构和光学性质。计算结果表明,Ce掺杂后在禁带中引入来自于Ce-4f态的局域能级;Pr掺杂后在价带顶引入了主要由Pr-4f态贡献的局域能级;掺杂后,GaN:Ce和GaN:Pr体系都变成间接带隙半导体并且带隙变窄,而且产生磁距,磁矩分别为1和2。掺杂后光学性质发生变化,GaN:Ce在低能区出现了新的介电峰和吸收峰,该峰来自带隙中的杂质能级到导带底的跃迁;GaN:Pr由于带隙变窄使第一个介电峰和光吸收边发生了红移。我们进一步计算了CeGa与附近的VN和VGa组成的复合缺陷对GaN:Ce体系的电子结构和光学性能的影响。当GaN:Ce体系中有空位存在时,会在掺杂体系中引入了浅能级,VN空位引入了施主能级,并且使总磁矩减小到0.67;而VGa引入了受主能级,总磁矩增大到2,光学性质在一定程度上发生变化,与GaN:Ce相比,介电函数和光吸收系数的峰值发生轻微偏移。最后,我们计算了Gd掺杂GaN的磁性性质。我们发现,在GaN中Gd原子之间的耦合是反铁磁性的,当有足够的空穴载流子存在时能够稳定铁磁相,Ga空位不是巨大磁矩的来源,间隙N缺陷和间隙O缺陷可能是巨大磁矩的来源。
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全文目录
摘要 4-5 ABSTRACT 5-9 第一章 绪论 9-18 1.1 研究背景 9 1.2 GaN材料的研究现状 9-11 1.3 GaN的基本性质 11-12 1.3.1 GaN的结构特性 11 1.3.2 GaN的电学特性 11-12 1.3.3 GaN的光学特性 12 1.4 稀土掺杂三族氮化物的研究概述 12-17 1.4.1 稀土元素的基本性质 12-13 1.4.2 稀土掺杂GaN的途径 13 1.4.3 稀土掺杂GaN的光学性质 13-16 1.4.4 稀土掺杂GaN的磁学性质 16-17 1.5 本论文的研究内容和意义 17-18 第二章 密度泛函理论及计算软件简介 18-27 2.1 多体问题 18-19 2.2 绝热近似 19 2.3 密度泛函理论 19-23 2.3.1 Hohenberg-Kohn定理 19-20 2.3.2 Kohn-Sham方程 20-21 2.3.3 交换关联泛函 21-23 2.3.4 自洽计算 23 2.4 投影扩充波(PAW)方法 23-24 2.5 强关联体系 24-26 2.6 VASP软件简介 26-27 2.6.1 VASP的主要计算功能 26 2.6.2 VASP的主要输入和输出文件 26-27 第三章 GaN及其空位的电子结构和光学性质研究 27-37 3.1 引言 27 3.2 模型和方法 27-29 3.3 计算结果与分析 29-36 3.3.1 晶体结构 29-30 3.3.2 形成能计算 30-31 3.3.3 电子结构 31-33 3.3.4 光学性质 33-36 3.4 小结 36-37 第四章 稀土Ce、Pr掺杂GaN的电子结构和光学性质研究 37-50 4.1 引言 37 4.2 Ce、Pr孤立原子掺杂GaN的电子结构和光学性能计算 37-44 4.2.1 模型和方法 37-38 4.2.2 计算结果与分析 38-44 4.3 Ce缺陷复合物对GaN的电子结构和光学性能的影响 44-49 4.3.1 计算模型 44-45 4.3.2 电子结构 45-47 4.3.3 光学性质 47-49 4.4 小结 49-50 第五章 稀土元素Gd掺杂GaN的磁学性质 50-56 5.1 引言 50 5.2 计算模型 50-51 5.3 计算结果与分析 51-55 5.3.1 电子结构 51-53 5.3.2 间隙N和间隙O 53-55 5.4 小结 55-56 第六章 结论 56-58 参考文献 58-63 攻读硕士期间发表的论文 63-64 致谢 64
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 材料
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