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光刻机六自由度工件台控制系统设计
作 者: 丛志浩
导 师: 陈兴林
学 校: 哈尔滨工业大学
专 业: 控制科学与工程
关键词: 光刻机工件台 解耦 状态反馈 三闭环
分类号: TN405
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
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内容摘要
光刻机是IC制造业的核心装备,而工件台掩膜台系统又是工件台系统中运动控制的核心组成部分,具有扫描、上下片、定位、调平调焦等一些功能。其运动控制的性能对光刻机的工作效率及精度都有着非常大的影响。近年来光刻机技术发展迅速,对工件台掩膜台系统的性能也越来越高,这就对工件台控制系统的设计提出了很高的要求。而工件台系统因为具有6自由度,以及其高精度快响应的要求,六自由度之间的耦合作用就对工件台系统的性能带来了很大的影响,因此,需要进行首先解耦设计,才能对其进行进一步的控制。首先,本文针对工件台系统的耦合情况,着手研究耦合的概念,判断耦合程度来确定是否需要对系统进行解耦设计,若需要设计应该对系统进行怎样的设计来消除耦合。在判断完耦合程度之后,研究了一些基于古典控制理论、现代控制理论、智能控制理论的解耦方法,比较了其优缺点、适用范围,选择合适于工件台系统解耦设计的状态反馈解耦方法。其次,对工件台系统进行了建模,先通过研究工件台所需要完成的功能,和运动特点,建立一个适当的机械模型,并选择了合适的电机来作为工件台运动部分的驱动元件。之后研究了电机的位移和工件台质心的位移之间的关系,来建立方程组,通过分析音圈电机的模型,将整个系统的位移关系、力学关系、电磁力等关系联立起来,建立了控制系统模型。然后,对系统进行了解耦设计,将六自由度相互耦合的MIMO系统,转化为输入和输出一一对应的SISO系统,然后依据工程上应用最为广泛的三闭环系统的设计方法,对SISO系统进行了控制,使其达到了较好的性能指标。对于系统的机械谐振,设计了陷波器,来消除其带来的不利影响。通过仿真验证了设计的结果。最后,对工件台的运动轨迹进行了规划,给出了整个硅片的曝光过程。
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全文目录
摘要 4-5 Abstract 5-9 第1章 绪论 9-17 1.1 课题背景及研究意义 9-10 1.2 光刻机发展历史及现状 10-11 1.3 光刻机工件台技术简介 11-16 1.3.1 光刻机工作原理 11-12 1.3.2 工件台发展历史 12-15 1.3.3 工件台技术国内外现状 15-16 1.4 耦合作用对工件台的影响 16 1.5 本文研究主要内容 16-17 第2章 解耦算法基础 17-28 2.1 耦合基本概念介绍 17-19 2.2 耦合程度分析 19-21 2.2.1 直接法 20 2.2.2 相对增益矩阵 20-21 2.2.3 对角优势矩阵 21 2.3 解耦方法研究 21-27 2.3.1 古典控制理论解耦方法 21-23 2.3.2 现代控制理论解耦方法 23-24 2.3.3 智能控制理论解耦方法 24-27 2.4 本章小结 27-28 第3章 光刻机工件台的建模分析 28-42 3.1 工件台系统的结构及功能 28-29 3.2 工件台的控制系统结构 29-30 3.3 工件台位移姿态关系 30-38 3.3.1 X , Y , θ_ z 平面位移关系分析 30-31 3.3.2 Z , θ_x , θ_ y 平面位移关系分析 31-38 3.4 工件台电机模型 38-40 3.5 工件台控制模型建立 40-41 3.6 本章小结 41-42 第4章 工件台解耦设计及仿真 42-66 4.1 耦合程度的判断 42-44 4.2 解耦控制系统设计 44-50 4.2.1 X , Y ,θ_ z 平面解耦 44-47 4.2.2 Z , θ_x , θ_ y 平面解耦 47-50 4.3 单回路闭环控制器设计 50-60 4.3.1 Y轴控制器设计 50-57 4.3.2 闭环回路中机械谐振的影响和消除 57-60 4.4 其他自由度仿真结果 60-62 4.5 解耦效果仿真验证 62-65 4.5.1 X , Y ,θ z 平面验证 63-64 4.5.2 Z , θ_x , θ_ y 平面验证 64-65 4.6 本章小结 65-66 第5章 工件台轨迹规划 66-73 5.1 步进扫描工作原理 66 5.2 扫描轨迹分析 66-67 5.3 扫描轨迹规划及算法设计 67-72 5.4 本章小结 72-73 结论 73-74 参考文献 74-78 致谢 78
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 微电子学、集成电路(IC) > 一般性问题 > 制造工艺
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