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电化学方法制备酞菁功能薄膜及其形态调控

作 者: 周汉波
导 师: 陈红征;汪茫
学 校: 浙江大学
专 业: 材料学
关键词: 电化学沉积 一维纳米材料 酞菁 纳米碳管 聚集态结构
分类号: TB43
类 型: 硕士论文
年 份: 2004年
下 载: 226次
引 用: 3次
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内容摘要


本论文综述了纳米材料以及其一维结构的发展、种类、独特的纳米效应及其纳米材料的制备和应用,介绍了电化学方法在制备纳米材料中的应用和纳米碳管酞菁化合物在红外探测器方面的独特性能。 本文首先合成了酞菁氧钛和三明治结构的酞菁铕,并对这两种物质和酞菁铜分别进行了提纯。通过元素分析,红外吸收光谱,紫外-可见光谱对合成的物质进行了表征,结果证明合成物质及其纯度达到了要求。 通过对酞菁类材料的循环伏安和质子化过程的分析,提出了酞菁类材料能够进行电化学沉积的理由:被三氟乙酸质子化的酞菁分子可以在电场驱动下沉积在电极上。因此,酞菁氧钛,酞菁铕和酞菁铜溶液可在电场的作用下进行沉积,在负极的ITO玻璃上得到了它们的薄膜,并可通过改变溶液的浓度和电沉积时间,得到纳米线、微米棒等不同形态的薄膜。 用扫描电子显微镜(SEM)考察了酞菁铕薄膜的形态,在不同的沉积时间和不同的溶液浓度下,可以控制得到纳米线和微米棒,并随着沉积时间的增长,酞菁铕薄膜由纳米线变为微米棒,并且线和棒的平均宽度逐步变大。采用XRD和吸收光谱分析其晶体结构,发现随着时间增长,酞菁铕的晶型由无定型向结晶转变并且变化越来越明显。通过分析比较,酞菁铕在薄膜和溶液状态中紫外-可见吸收光谱,结合激子模型,研究了酞菁铕薄膜的聚集态结构,发现沉积得到的酞菁铕为H-聚集体。对酞菁铕薄膜进行了磁场和热处理,发现这两者对薄膜形态的影响不明显。对于酞菁铕薄膜的Ⅰ-Ⅴ性能和红外性能也进行了初步研究。 用原子力显微镜(AFM)考察了酞菁氧钛薄膜的形态,发现随着沉积时间增长,聚集体的形态从球状变为椭圆体。XRD和紫外-近红外光谱分析表明,随着沉积时间的增长,酞菁氧钛由不定型变为α-TiOPc为主的晶体,而α-TiOPc是在近红外感光性能较好的一种晶型。 本文还探讨了酞菁铕,酞菁铜,酞菁氧钛的分子结构对其聚集态结构的影响。 最后,本论文还对多壁纳米碳管成功地进行了电化学沉积,并在硅基上实现了通过电化学沉积钛菁铕对硅基进行表面修饰。

全文目录


摘要  5-6
Abstract  6-8
第一章 绪论  8-22
  1.1 纳米科技的研究进展  8-9
  1.2 纳米材料以及制备  9-11
    1.2.1 纳米材料的特性  9-10
    1.2.2 纳米材料常用的制备方法  10-11
  1.3 一维纳米材料以及制备  11-15
    1.3.1 有高度异向生长晶体结构的材料形成一维纳米结构  12-13
    1.3.2 模板导向合成  13-14
    1.3.3 适合于所有固体材料的制备一维纳米材料的方法  14-15
  1.4 电化学在制备纳米材料中的应用  15-18
  1.5 纳米光电材料的应用----光电导红外探测器  18-21
    1.5.1 光电导红外探测器工作原理  18
    1.5.2 制备光电导红外探测器的无机材料及其缺陷  18-19
    1.5.3 纳米碳管的红外探测综述  19-20
    1.5.4 稀土酞菁及与纳米碳管的复合  20-21
  1.6 课题的提出及其意义  21-22
第二章 光电材料的合成与表征  22-29
  2.1 实验试剂与仪器  22-23
    2.1.1 实验试剂  22
    2.1.2 所用仪器设备  22-23
  2.2 酞菁铜的提纯  23
  2.3 酞菁氧钛的制备  23-24
  2.4 酞菁铕的合成  24-27
    2.4.1 由金属氧化物制备无水氯化物  24
    2.4.2 由无水氯化物和邻苯二甲腈制备稀土酞菁  24-25
    2.4.3 产物的纯化  25-27
  2.5 材料的表征  27-29
    2.5.1 FTIR表征  27-28
    2.5.2 UV-Vis表征  28
    2.5.3 元素分析  28-29
第三章 酞菁类纳米薄膜的制备与形态调控  29-42
  3.1 电化学沉积法制备酞菁类纳米薄膜的原理  29-32
    3.1.1 酞菁类得失电子的过程分析  29-30
    3.1.2 循环伏安法  30-32
  3.2 酞菁类材料的电化学沉积实验过程  32-34
    3.2.1 酞菁铕电沉积溶液的配制  32
    3.2.2 酞菁氧钛和酞菁铜电化学溶液的配制  32
    3.2.3 阴阳电极的清洗  32-33
    3.2.4 电化学沉积  33-34
  3.3 影响酞菁类纳米薄膜形态的因素和调控方法  34-42
    3.3.1 酞菁铕纳米薄膜  34-40
      3.3.1.1 电化学沉积时间的影响  34-36
      3.3.1.2 电化学沉积溶液浓度的影响  36-37
      3.3.1.3 外场(磁场)的影响  37-39
      3.3.1.4 基片的影响  39-40
    3.3.2 酞菁氧钛薄膜  40-41
    3.3.3 酞菁铜薄膜  41-42
第四章 沉积薄膜聚集态结构及性能的研究  42-56
  4.1 酞菁铕薄膜的晶体结构和聚集态结构  42-48
    4.1.1 酞菁铕纳米线和薄膜的晶体结构研究  42-44
    4.1.2 酞菁铕溶液和薄膜的光学性能  44-46
    4.1.3 浸涂制备的薄膜和电化学沉积的比较  46-48
  4.2 酞菁氧钛薄膜的形态和晶体结构变化  48-50
    4.2.1 酞菁氧钛薄膜的晶体结构变化  48
    4.2.2 酞菁氧钛溶液和薄膜的光学性能  48-50
  4.3 酞菁类光电薄膜的生长机理和聚集态讨论  50-54
    4.3.1 Ostwald ripening机理  50
    4.3.2 从激子模型来分析酞菁铕的分子聚集态结构  50-52
    4.3.3 酞菁分子结构的不同对聚集形态的影响  52-54
  4.4 酞菁类材料薄膜的性能测试  54-56
    4.4.1 光电性能(Ⅰ-Ⅴ性能)测试  54-55
    4.4.2 稀土酞菁的红外性能  55-56
第五章 纳米碳管的电化学沉积  56-60
  5.1 纳米碳管研究进展、合成和纯化  56-57
  5.2 纳米碳管的电化学沉积  57-60
第六章 总结  60-62
参考文献  62-65
发表的论文  65-66
致谢  66

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中图分类: > 工业技术 > 一般工业技术 > 工业通用技术与设备 > 薄膜技术
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