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高精度微光学器件激光直写光刻系统研究
作 者: 杨特育
导 师: 李志扬
学 校: 华中师范大学
专 业: 电路与系统
关键词: MOEMS 激光直写系统 光刻 交流伺服电机 ISA PCI
分类号: TN249
类 型: 硕士论文
年 份: 2007年
下 载: 207次
引 用: 1次
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内容摘要
近年来,集微光学、微电子、微机械装置于一体的MEMS和MOEMS技术迅猛发展,推动了微细加工技术的不断改进和提高,其中激光直写光刻技术因其控制灵活,不需要掩模,加工周期短,加工精度高,受到越来越多的关注。本论文研制了一套高精度激光直写光刻系统,它采用带17位增量式编码器的松下MINAS A系列交流伺服马达,同时还采用基于高精密滚珠丝杆和超精密线性滑轨导向的X-Y运动平台,可以实现约30nm的运动控制灵敏度。论文针对该系统开发了一套基于ISA总线的三维运动控制卡,它采用8253计数器来控制马达运行速度和行程,同时采用8255接口芯片来控制马达运行方向,实现马达限位保护。进一步论文采用PCI9052芯片实现了三维运动控制卡从ISA总线到PCI总线的升级。软件方面,在Visual C++开发环境下开发了控制软件界面,实现了直线和曲线运动控制,进一步还采用WinDriver开发了PCI设备驱动程序以及相关应用程序。通过感光胶片和SU-8光刻胶的光刻实验,表明上述激光直写光刻系统完全能够满足光刻精度的要求,并且具有控制简单,行程轨迹精确、响应速度快、性能稳定等特点,适用于许多微光学器件加工领域。
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全文目录
摘要 4-5 Abstract 5-8 第一章 绪论 8-24 1.1 微光机电系统的历史概况 8-9 1.2 微光机电系统的组成要素 9 1.3 微光机电技术(MOEMS)在光通信领域的典型应用 9-11 1.4 微光机电系统的制造工艺 11-15 1.4.1 掩模成像光刻制造技术 11-14 1.4.2 无掩模光刻技术 14-15 1.5 国内外激光直写系统发展现状 15-18 1.6 交流伺服系统概述 18-22 1.6.1 交流伺服系统的特点 18-19 1.6.2 交流伺服系统数字化控制的优点 19-20 1.6.3 全数字交流伺服系统的组成 20-22 1.7 论文的主要内容和章节安排 22-24 第二章 高精度激光直写光刻系统总体设计 24-33 2.1 高精度激光直写光刻系统的总体设计方案 24-26 2.2 松下 MINASA系列交流伺服系统 26-33 2.2.1 性能特点 26-29 2.2.2 工作原理 29-30 2.2.3 驱动信号连接和参数设置 30-33 第三章 激光直写光刻系统控制电路的硬件设计 33-65 3.1 控制电路功能要求 33 3.2 三维运动控制卡总体设计 33-34 3.3 单元电路模块设计 34-42 3.3.1 PC接口及地址译码模块的设计 34-36 3.3.2 时钟产生模块 36-37 3.3.3 方向信号产生模块 37-38 3.3.4 脉冲信号产生模块 38-40 3.3.5 保护电路 40-42 3.4 ISA总线到PCI总线转换电路设计 42-65 3.4.1 PCI总线概述 42-43 3.4.2 PCI局部总线的特点 43-45 3.4.3 PCI总线的体系结构 45-46 3.4.4 PCI局部总线的信号定义及其命令 46-49 3.4.5 PCI总线的配置空间 49-50 3.4.6 PCI接口芯片的选择 50-54 3.4.7 PCI总线接口设计 54-55 3.4.8 PCI9052的复位和 EEPROM的初始化 55 3.4.9 PCI9052配置寄存器的配置 55-61 3.4.10 局部总线 ISA接口模式数据传输操作 61-65 第四章 基于 ISA接口的控制电路和 PCI接口卡软件设计 65-74 4.1 基于 ISA接口的控制电路软件设计 65-68 4.2 PCI设备驱动程序和应用程序的开发 68-74 4.2.1 WDM设备驱动程序概述 68-70 4.2.2 WDM设备驱动程序开发工具 WinDriver功能简介 70 4.2.3 用户模式驱动程序的开发流程 70-72 4.2.4 应用程序的开发 72-74 第五章 系统实验调试 74-79 5.1 系统的硬件调试 74-75 5.2 激光直写系统光刻实验 75-79 5.2.1 感光胶片刻蚀实验 75-76 5.2.2 SU-8光刻胶光刻实验 76-79 第六章 结论与展望 79-80 参考文献 80-84 附录 1:运动控制卡实物图 84 附录 2:激光直写光刻系统机械装置图 84-85 在校期间发表的论文 85-86 致谢 86
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 光电子技术、激光技术 > 激光技术、微波激射技术 > 激光的应用
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