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芍药花期调控研究初探

作　者: 孟凡聪
导　师: 刘燕；王莲英
学　校: 北京林业大学
专　业: 园林植物与观赏园艺
关键词: 芍药花期调控冷藏光合特性
分类号: S682.12
类　型: 硕士论文
年　份: 2006年
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引　用: 5次
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内容摘要

本文对芍药的花期调控进行了初步的研究。内容包括抑制栽培过程中的一些栽培技术和栽培与环境的关系，芍药根系及花芽冷藏过程中的生理生化变化，其冷藏后的生长状况和光合特性的研究等。主要研究结论如下：（1）不同基质对芍药植株生长发育有显著的影响。珍珠岩蛭石基质优于园土和腐叶土。基质理化性质分析结果也表明珍珠岩蛭石更适合植株生长。盆栽方式表现良好。芍药生长时温度的快速及大幅度的下降及连日阴雨造成的雨水过多、光照不足等不利条件会造成严重的败育。（2）对芍药冷藏期间根系营养含量包括水分、可溶性蛋白、淀粉、可溶性糖的变化的研究，表明其营养物质一直在消耗。SOD在整个冷藏期间其活性相对平稳。CAT和POD在芍药贮存期间可能承担着重要的氧化酶防御角色。（3）芍药贮后不同生长环境下的栽培表明，长时间冷藏后，在露地栽培生长状况优于短期贮藏后在温室中栽培。因此冷藏时间长短并没有对以后生长造成明显差异，或者说其引起的不利影响可以由以后的良好栽培条件给予补偿。冷藏时间的长短对芍药生长的影响在此试验中不能明显判定。芍药温室栽培中的光合速率和蒸腾速率日变化均呈单峰曲线变化，而露地栽培中均呈双峰曲线变化。气孔导度与光照强度和温度呈一定相关性，是影响光合速率的主要因素。回归分析表明光照、温度是影响芍药光合作用的最重要因素。芍药温室栽培的最适光强为600～800μmolm^-2s^-1，而露地栽培的最适光强为800～1000μmol m^-2s^-1。

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