学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示

激光偏振膜稳定性研究

作　者: 赵元安
导　师: 杨向东
学　校: 四川大学
专　业: 原子分子物理
关键词: 激光偏振膜波长漂移无漂移偏振膜抗激光诱导损伤阈值交替方向隐式原理
分类号: O484.41
类　型: 硕士论文
年　份: 2001年
下　载: 133次
引　用: 0次
阅　读: 论文下载

内容摘要

随着光学薄膜技术的不断发展，光学薄膜器件的应用日益广泛，光学薄膜的稳定性研究也被提到了极其重要的地位。为了解决大功率激光器中激光偏振膜的稳定性问题，本课题从镀膜材料特性、膜系设计、沉积工艺等方面对这一问题展开了深入的研究。通过对影响偏振膜器件稳定性的各种因素及其物理机理的分析，提出了改善其稳定性的方法。分析了薄膜内电场分布对辐射稳定性的影响，并在此基础上，设计了低损耗的激光偏振膜；从温度场设计的角度出发，利用交替方向隐式原理编制了膜层内温度分布数值计算程序，通过计算薄膜热参数对膜层内温度分布的影响，对沉积工艺进行了相应的调整。根据膜层的柱状多晶结构是引起工作波长漂移的主要因素，利用等离子体辅助沉积制备出了中心波长为1054nm的无漂移偏振膜。建立了一套完整的阈值测量系统，对制备的偏振膜阈值进行了测量。

全文目录

中文摘要  3-5
1．引言  5-8
2．影响光学薄膜稳定性的因素  8-13
  2．1 水汽对光学薄膜器件性能的影响  8-9
  2．2 温度对光学薄膜器件性能的影响  9-10
  2．3 辐射对光学薄膜器件性能的影响  10-12
  2．4 小结  12-13
3．激光偏振膜的膜系设计  13-20
  3．1 镀膜材料的选择  13-14
  3．2 膜系设计  14-20
    3．2．1 理论分析  15-16
    3．2．2 优化算法及实例  16-20
4．激光辐射致热薄膜温度响应的理论研究  20-27
  4．1 计算模型  20-23
  4．2 计算参数和计算结果  23-25
  4．3 讨论  25-27
5．实验工艺  27-42
  5．1 实验设备及原理简介  27-29
  5．2 基片的表面粗糙度与洁净度  29-30
  5．3 镀制工艺  30-39
    5．3．1 厚度监控误差分析  31-33
    5．3．2 材料色散引起的误差分析  33-34
    5．3．3 镀制过程  34-35
    5．3．4 成膜质量因素分析  35-39
  5．4 偏振膜光学性能测量  39-42
6．阈值测量  42-48
  6．1 损伤阈值测量光路  42-43
  6．2 入射激光能量的测量  43-44
  6．3 激光光斑等效面积的测量  44-45
  6．4 激光脉冲宽度  45
  6．5 损伤概率及阈值定义  45
  6．6 阈值测量结果  45-47
  6．7 结果分析  47-48
7．总结  48-49
参考文献  49-52
致谢  52-53

相似论文

Brewer光谱仪长期观测太阳UVB光谱辐射数据的QA/QC研究,P182.21
硝酸根离子的光谱分析,O657.3
光学薄膜设计及其在光波分复用系统中的应用,TN929.11;O484.1
基因突变的菌视紫红质聚合膜的光学非线性及在全息存储等方面的应用研究,O484.41
ZnO薄膜电致发光的探索,O484.41
光学薄膜反演软件的研制与应用,O484.41
双波长激光防护红外减反滤光片的研制,O484.41
短脉冲及飞秒脉冲对光学薄膜的损伤研究,O484.41
硅/锗掺杂类金刚石薄膜特性研究,O484.41
纳米Ti:WO_3薄膜的制备及光学气敏性能研究,O484.41
修正板改善薄膜厚度均匀性的研究,O484.41
大角度宽波带减反射薄膜的优化设计、制备和表征,O484.41
三光合一吊舱光学分系统镀膜工艺的研究,O484.41
400-1100nm宽带增透膜的设计与制备,O484.41
气溶胶颗粒材料光学常数的反演方法研究,O484.41
富勒烯修饰双分子层脂膜分子器件光电了与光谱学特性研究,O484.41
富勒烯分子及薄膜的光谱学特性研究,O484.41
某些常用光学材料（薄膜）的椭偏测量,O484.41
脉冲CO_2激光薄膜研制,O484.41
有机花菁染料Langmuir-Blodgett膜的光谱特性研究,O484.41