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400-1100nm宽带增透膜的设计与制备
作 者: 张家斌
导 师: 付秀华
学 校: 长春理工大学
专 业: 光学工程
关键词: 光学薄膜 大气辐射系统 宽带增透膜 离子辅助
分类号: O484.41
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
下 载: 614次
引 用: 1次
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内容摘要
为了满足大气辐射系统中的光学元件的使用要求,即在可见光及近红外波段范围具有高透过率,根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软件设计膜系,采用离子辅助沉积,电子束真空镀膜的方法,通过对真空度、基底温度、TiO2膜料蒸发速率等工艺参数的调整和膜层厚度的监控方法的改进,采用Al2O3,MgF2,TiO2,SiO2四种镀膜材料,在K9基底上制备了400—1100nm宽带增透膜。并用分光光度计测量了薄膜的透过率,得到透过率光谱曲线。所镀膜层在垂直入射时,400—1100纳米波段平均反射率小于1.5%。最后对制备的增透膜进行了各种环境测试,环境测试结果显示,膜层的各项指标都达到了设计要求。
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全文目录
摘要 4-5 ABSTRACT 5-6 目录 6-7 第一章 绪论 7-10 1.1 薄膜的发展 7 1.2 宽带增透膜的发展及应用 7-8 1.3 论文研究的内容 8-10 第二章 薄膜设计理论 10-19 2.1 光学薄膜的特性计算 10-14 2.2 双有效界面法 14-16 2.3 介质多层膜的弱吸收计算 16-19 第三章 增透膜设计理论 19-32 3.1 宽带增透膜的使用要求 19 3.2 薄膜材料的选择 19-24 3.2.1 选择薄膜材料的依据 19-21 3.2.2 选择薄膜材料 21-24 3.3 增透膜设计理论基础 24-30 3.3.1 单层膜的减反射原理及计算 24-26 3.3.2 双层减反射膜的原理及计算 26-27 3.3.3 三层减反射膜的原理及计算 27-28 3.3.4 多层膜膜系的优化方法 28-30 3.4 课题设计方案 30-32 第四章 制备工艺 32-45 4.1 薄膜的制备装置 32-37 4.2 主要工艺因素分析 37-38 4.3 成膜过程 38-41 4.4 镀膜材料折射率的确定 41-43 4.5 制备工艺过程 43-45 第五章 误差及测试结果分析 45-50 5.1 实验结果 45-46 5.2 误差分析 46-49 5.3 薄膜质量检测 49-50 结论 50-51 致谢 51-52 参考文献 52-54 论文发表情况 54
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中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学 > 薄膜的性质 > 光学性质
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