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400-1100nm宽带增透膜的设计与制备

作 者: 张家斌
导 师: 付秀华
学 校: 长春理工大学
专 业: 光学工程
关键词: 光学薄膜 大气辐射系统 宽带增透膜 离子辅助
分类号: O484.41
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
下 载: 614次
引 用: 1次
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内容摘要


为了满足大气辐射系统中的光学元件的使用要求,即在可见光及近红外波段范围具有高透过率,根据双有效界面法设计原理配合TFC膜系软件设计膜系,采用离子辅助沉积,电子束真空镀膜的方法,通过对真空度、基底温度、TiO2膜料蒸发速率等工艺参数的调整和膜层厚度的监控方法的改进,采用Al2O3,MgF2,TiO2,SiO2四种镀膜材料,在K9基底上制备了400—1100nm宽带增透膜。并用分光光度计测量了薄膜的透过率,得到透过率光谱曲线。所镀膜层在垂直入射时,400—1100纳米波段平均反射率小于1.5%。最后对制备的增透膜进行了各种环境测试,环境测试结果显示,膜层的各项指标都达到了设计要求。

全文目录


摘要  4-5
ABSTRACT  5-6
目录  6-7
第一章 绪论  7-10
  1.1 薄膜的发展  7
  1.2 宽带增透膜的发展及应用  7-8
  1.3 论文研究的内容  8-10
第二章 薄膜设计理论  10-19
  2.1 光学薄膜的特性计算  10-14
  2.2 双有效界面法  14-16
  2.3 介质多层膜的弱吸收计算  16-19
第三章 增透膜设计理论  19-32
  3.1 宽带增透膜的使用要求  19
  3.2 薄膜材料的选择  19-24
    3.2.1 选择薄膜材料的依据  19-21
    3.2.2 选择薄膜材料  21-24
  3.3 增透膜设计理论基础  24-30
    3.3.1 单层膜的减反射原理及计算  24-26
    3.3.2 双层减反射膜的原理及计算  26-27
    3.3.3 三层减反射膜的原理及计算  27-28
    3.3.4 多层膜膜系的优化方法  28-30
  3.4 课题设计方案  30-32
第四章 制备工艺  32-45
  4.1 薄膜的制备装置  32-37
  4.2 主要工艺因素分析  37-38
  4.3 成膜过程  38-41
  4.4 镀膜材料折射率的确定  41-43
  4.5 制备工艺过程  43-45
第五章 误差及测试结果分析  45-50
  5.1 实验结果  45-46
  5.2 误差分析  46-49
  5.3 薄膜质量检测  49-50
结论  50-51
致谢  51-52
参考文献  52-54
论文发表情况  54

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中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学 > 薄膜的性质 > 光学性质
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