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基于离子刻蚀的石英晶振频率微调技术研究
作 者: 陈强
导 师: 刘家胜
学 校: 苏州大学
专 业: 电子与通信工程
关键词: 石英晶振 离子刻蚀 频率微调 频率偏移 电流密度
分类号: TN752.2
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
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内容摘要
石英晶振是利用晶体的压电效应制成的一种晶体振荡器。因为它具有高稳定性、高精度和低功耗等特点,被广泛应用于各种电器产品中。近年来,各生产企业为了在激烈的市场竞争中取得胜利,不断进行改善,提高产品的性能,降低产品的成本。本论文通过对离子刻蚀技术的探讨,对石英晶振的离子刻蚀频率微调进行研究。最后通过实验,明确了离子刻蚀频率加工时,刻蚀速度的设定,从而改善了离子刻蚀频率微调的加工工艺。使得加工效率和制品的良品率得到了很大的提高。论文的主要工作成果:1.通过实验,对离子刻蚀后频率产生的偏移规律进行研究,在此基础上明确了刻蚀速度的设定方法,并经过实验数据统计出最优的刻蚀速率。2.通过实际刻蚀速度和设定刻蚀速度的比较,得出了离子枪工作状态确认的方法,以便及时发现异常并对离子枪进行维修和保养。通过以上两点可以直接提高离子刻蚀频率微调的加工效率和良品率。
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全文目录
中文摘要 4-5 ABSTRACT 5-8 第一章 绪论 8-12 1.1 引言 8 1.2 石英晶振频率微调国内外研究现状 8-11 1.3 离子束刻蚀加工 11-12 第二章 石英晶振 12-18 2.1 压电效应 12-13 2.2 石英谐振器的形成及等效电路 13-14 2.3 石英谐振器的谐振频率 14 2.4 石英谐振器的电抗曲线 14-16 2.5 石英晶振的温度特性 16-18 第三章 离子刻蚀技术 18-28 3.1 离子束加工 18-21 3.1.1 离子束加工原理 18 3.1.2 离子束加工分类 18-20 3.1.3 离子束加工应用 20-21 3.2 离子束刻蚀 21-25 3.2.1 离子刻蚀的物理过程 21-22 3.2.2 离子刻蚀的溅射率 22-25 3.3 离子束刻蚀设备 25-26 3.3.1 离子源 25-26 3.3.2 工作腔 26 3.3.3 排气系统 26 3.4 离子束刻蚀的应用 26-28 第四章 离子刻蚀频率微调及生产工艺 28-42 4.1 频率微调方法 28 4.2 离子刻蚀频率微调方法 28-29 4.3 离子束电流密度 29-30 4.4 离子束刻蚀速度 30-32 4.5 离子刻蚀频率微调加工工艺 32-42 4.5.1 离子刻蚀后数秒内频率的偏移 32-35 4.5.2 离子刻蚀后频率偏移的处理方法 35-39 4.5.3 离子枪出力不稳定产生不良现象 39-40 4.5.4 离子枪出力不稳定的处理方法 40-42 结束语 42-43 参考文献 43-45 攻读学位期间公开发表的论文 45-46 致谢 46-47
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 基本电子电路 > 振荡技术、振荡器 > 振荡器 > 高频振荡器
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