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基于离子刻蚀的石英晶振频率微调技术研究

作 者: 陈强
导 师: 刘家胜
学 校: 苏州大学
专 业: 电子与通信工程
关键词: 石英晶振 离子刻蚀 频率微调 频率偏移 电流密度
分类号: TN752.2
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
下 载: 30次
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内容摘要


石英晶振是利用晶体的压电效应制成的一种晶体振荡器。因为它具有高稳定性、高精度和低功耗等特点,被广泛应用于各种电器产品中。近年来,各生产企业为了在激烈的市场竞争中取得胜利,不断进行改善,提高产品的性能,降低产品的成本。本论文通过对离子刻蚀技术的探讨,对石英晶振的离子刻蚀频率微调进行研究。最后通过实验,明确了离子刻蚀频率加工时,刻蚀速度的设定,从而改善了离子刻蚀频率微调的加工工艺。使得加工效率和制品的良品率得到了很大的提高。论文的主要工作成果:1.通过实验,对离子刻蚀后频率产生的偏移规律进行研究,在此基础上明确了刻蚀速度的设定方法,并经过实验数据统计出最优的刻蚀速率。2.通过实际刻蚀速度和设定刻蚀速度的比较,得出了离子枪工作状态确认的方法,以便及时发现异常并对离子枪进行维修和保养。通过以上两点可以直接提高离子刻蚀频率微调的加工效率和良品率。

全文目录


中文摘要  4-5
ABSTRACT  5-8
第一章 绪论  8-12
  1.1 引言  8
  1.2 石英晶振频率微调国内外研究现状  8-11
  1.3 离子束刻蚀加工  11-12
第二章 石英晶振  12-18
  2.1 压电效应  12-13
  2.2 石英谐振器的形成及等效电路  13-14
  2.3 石英谐振器的谐振频率  14
  2.4 石英谐振器的电抗曲线  14-16
  2.5 石英晶振的温度特性  16-18
第三章 离子刻蚀技术  18-28
  3.1 离子束加工  18-21
    3.1.1 离子束加工原理  18
    3.1.2 离子束加工分类  18-20
    3.1.3 离子束加工应用  20-21
  3.2 离子束刻蚀  21-25
    3.2.1 离子刻蚀的物理过程  21-22
    3.2.2 离子刻蚀的溅射率  22-25
  3.3 离子束刻蚀设备  25-26
    3.3.1 离子源  25-26
    3.3.2 工作腔  26
    3.3.3 排气系统  26
  3.4 离子束刻蚀的应用  26-28
第四章 离子刻蚀频率微调及生产工艺  28-42
  4.1 频率微调方法  28
  4.2 离子刻蚀频率微调方法  28-29
  4.3 离子束电流密度  29-30
  4.4 离子束刻蚀速度  30-32
  4.5 离子刻蚀频率微调加工工艺  32-42
    4.5.1 离子刻蚀后数秒内频率的偏移  32-35
    4.5.2 离子刻蚀后频率偏移的处理方法  35-39
    4.5.3 离子枪出力不稳定产生不良现象  39-40
    4.5.4 离子枪出力不稳定的处理方法  40-42
结束语  42-43
参考文献  43-45
攻读学位期间公开发表的论文  45-46
致谢  46-47

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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 基本电子电路 > 振荡技术、振荡器 > 振荡器 > 高频振荡器
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