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铝合金表面均三嗪二硫醇和硅烷纳米复合薄膜的制备及性能研究
作 者: 王茜
导 师: 王芳
学 校: 西北农林科技大学
专 业: 化学生物学
关键词: 铝合金 6-N,N-二丁基胺-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇单盐 电化学聚合 硅烷化处理 纳米复合薄膜
分类号: TG174.4
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
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内容摘要
均三嗪二硫醇类聚合薄膜与金属基底结合牢固、具有均匀致密、耐腐蚀等特性,在金属防护方面有着良好应用前景。其次均三嗪二硫醇类化合物作为无害硫化剂,可有效避免传统处理方法中铬酸盐对环境的不友好。自从Mori K首先通过电化学技术制备均三嗪二硫醇类化合物薄膜以来,尚未有对该类聚合薄膜进一步修饰改性的报道。铝合金具有质轻、成本低、导电性强,易回收等特点,广泛应用于电子及航天工业领域。其广泛的应用性能及合金化导致耐腐蚀性能显著下降。因此,研究和开发无毒、环境友好同时耐腐蚀性能良好的金属预处理工艺具有重要的意义。本论文通过自主开发的“有机复合成膜技术”,成功的在铝合金表面制备了均三嗪二硫醇及硅烷纳米复合薄膜:首先通过电化学方法,在铝合金表面制备6-N,N-二丁基胺-1,3,5-三嗪-2,4-二硫醇单盐(DBN)的纳米聚合薄膜(PDB),然后采用自组装技术对铝合金表面PDB膜进行十六烷基三甲氧基硅烷化处理,最终形成疏水/耐蚀性的高分子纳米复合薄膜(CPDB)。实验结果如下:(1)通过对红外光谱及循环伏安曲线的分析,选择了铝合金表面电化学制备纳米聚合薄膜(PDB)的最佳支持电解质与最佳沉积电位;测试结果表明只有在亚硝酸钠作为支持电解质、沉积电位为3.8 V时,在AA5052表面形成均匀致密、且耐蚀性良好的PDB纳米聚合薄膜。(2)通过循环伏安法解释了DBN在AA5052表面的反应及PDB的生长过程,同时分析了CPDB膜的最佳制备条件及形成机理。借助X射线光电子能谱仪(XPS)、傅里叶变换红外光谱仪(FT-IR)、扫描电子显微镜(SEM)、接触角测量仪对铝合金表面薄膜的特性进行了表征。结果表明,PDB膜形成后AA5052表面的接触角从未镀膜的89.9°上升到124.3°,CPDB膜形成后接触角达135.8°;SEM和XPS测试表明“有机复合成膜技术”可以有效地在AA5052表面获得均匀致密的CPDB高分子纳米复合薄膜。(3)通过盐水浸泡实验和极化曲线测试分析了高分子纳米聚合薄膜(CPDB)对铝合金的防腐蚀保护效率,结果表明,CPDB膜对铝合金基底的保护效率可高达94.3%,明显优于单一的PDB膜(77.5%)。
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全文目录
摘要 5-6 ABSTRACT 6-10 第一章 绪论 10-28 1.1 铝合金的性质与应用 10 1.2 铝合金的腐蚀 10-11 1.2.1 铝合金的腐蚀性 10 1.2.2 铝合金的腐蚀类型及形态 10-11 1.3 常规铝合金表面防护处理技术 11-12 1.3.1 铬酸盐钝化技术 12 1.3.2 磷酸盐转化膜技术 12 1.3.3 阳极氧化技术 12 1.4 新型防护技术Ⅰ—硅烷化处理技术(Silanization) 12-16 1.4.1 硅烷化处理与防腐蚀机理 12-13 1.4.2 硅烷化处理的研究进展 13-15 1.4.3 硅烷膜制备的影响因素 15-16 1.5 新型防护技术Ⅱ—电化学辅助沉积技术 16-22 1.5.1 硅烷膜的电化学制备 17 1.5.2 TDTs 纳米聚合薄膜的电化学制备 17-22 1.6 膜的表征 22-24 1.6.1 电化学方法表征 22-23 1.6.2 元素与结构分析 23-24 1.6.3 膜的浸润性 24 1.7 本论文的研究内容及研究目的 24-26 1.7.1 本论文的研究内容 24-25 1.7.2 本论文的研究目的 25-26 1.8 研究方案与技术路线 26-28 1.8.1 研究方案及技术路线 26 1.8.2 纳米薄膜的表征方法 26-28 第二章 Step1—PDB 纳米聚合薄膜的制备 28-36 2.1 实验部分 28-31 2.1.1 实验试剂与材料 28-29 2.1.2 实验仪器及设备 29 2.1.3 实验部分 29-30 2.1.4 测试与表征 30-31 2.2 实验结果与讨论 31-35 2.2.1 支持电解质的选择 31-32 2.2.2 最佳沉积电位的确定 32-33 2.2.3 不同沉积电位下的循环伏安图及极化曲线分析 33-35 2.3 本章小结 35-36 第三章 Step2—CPDB 高分子纳米复合薄膜的制备 36-43 3.1 实验部分 36-37 3.1.1 实验试剂及材料 36 3.1.2 实验仪器及设备 36 3.1.3 实验方法 36-37 3.1.4 测试与表征 37 3.2 实验结果与分析 37-42 3.2.1 HDTMS 溶液水解时间的确定 37-38 3.2.2 溶液浓度及组装时间的确定 38-41 3.2.3 固化温度对硅烷化处理的影响 41-42 3.3 本章小结 42-43 第四章 CPDB 高分子纳米复合薄膜的成膜机理及性能测试 43-51 4.1 实验部分 43 4.1.1 实验试剂及材料 43 4.1.2 测试与表征 43 4.2 CPDB 高分子纳米复合薄膜的成膜机理 43-47 4.3 复合膜的表征及性能测试 47-50 4.3.1 复合膜的表征 47-48 4.3.2 复合膜的性能测试 48-50 4.4 本章小结 50-51 第五章 结论与展望 51-53 5.1 结论 51 5.2 展望 51-53 参考文献 53-57 致谢 57-58 作者简介 58
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中图分类: > 工业技术 > 金属学与金属工艺 > 金属学与热处理 > 金属腐蚀与保护、金属表面处理 > 腐蚀的控制与防护 > 金属表面防护技术
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