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GaN和ZnO半导体化合物的合成与表征
作 者: 翟雷应
导 师: 贾虎生
学 校: 太原理工大学
专 业: 材料加工工程
关键词: 半导体 氮化镓 氧化锌 纳米线 四足晶须 六方纤锌矿结构
分类号: TN304
类 型: 硕士论文
年 份: 2006年
下 载: 224次
引 用: 2次
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内容摘要
半导体纳米材料所具有的各种量子效应和其独特的性质,使其在未来的各种光、电、机械等功能器件中有着广阔的应用前景。用半导体材料制成的纳米线和碳纳米管等一维纳米材料因其具有独特的光学、电学性能,可以作为理想的纳米尺度电子和光学器件,因此半导体低维材料的研究引起了人们极大的兴趣。 GaN和ZnO在半导体材料的研究中占有重要地位,两者在光学及光电化学方面都有着很优异的性能及广泛的应用。本论文主要以这些半导体材料为研究对象,使用较为简便的工艺流程和反应系统对这些材料的低维纳米结构进行合成。通过XRD、FESEM、HRTEM、EDS和PL谱等测试手段对样品进行了超微结构、物性及光学性能等特性的表征,对各种生长条件下不同材料的生长机理进行深入的分析和探讨。通过测试结果,不断优化制备工艺,提高产品性能。 以我们用Ga2O3作为镓源,氨气作为氮源,利用氨化反应法,无任何催化剂的条件下在Si衬底上合成了GaN纳米线。纳米线平直光滑,直径在5-20nm,长度大于30μm,单根纳米线直径均匀。HRTEM分析表明:纳米线以VS机理生长,生长方向为[001]晶向;纳米线表面光滑没
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全文目录
第一章 绪论 12-42 1.1 引言 12 1.2 纳米材料 12-15 1.2.1 纳米材料特性 13-14 1.2.2 纳米科技的基本内涵 14-15 1.3 半导体纳米材料的性质与应用 15-18 1.3.1 半导体材料的分类 15-16 1.3.2 半导体纳米材料 16-18 1.4 低维半导体材料的研究概况 18-20 1.4.1 低维半导体材料的基本概念 18-19 1.4.2 低维半导体材料的制备 19-20 1.5 氮化镓材料的应用及其发展 20-29 1.5.1 GaN基第三代半导体材料 20-21 1.5.2 Ⅲ-Ⅴ族氮化物材料 21-23 1.5.3 GaN材料的研究历史 23-24 1.5.4 GaN基材料的基本特性 24-26 1.5.5 Ⅲ-Ⅴ族氮化物的外延生长 26-28 1.5.6 衬底的选择 28-29 1.6 氧化锌材料的应用及其发展 29-35 1.6.1 ZnO材料的基本特性及应用 29-31 1.6.2 ZnO材料的研究进展 31-32 1.6.3 低维 ZnO纳米材料的研究进展 32-35 1.7 半导体器件的研究进展 35-40 1.7.1 GaN基发光器件介绍 35-36 1.7.2 GaN基LEDs 36-37 1.7.3 GaN基LDs 37-38 1.7.4 GaN基电子器件 38 1.7.5 GaN基紫外光探测器 38-39 1.7.6 GaN基光电器件的应用前景及展望 39-40 1.8 本文选题意义 40-42 第二章 氮化镓纳米材料的制备和表征 42-68 2.1 引言 42-43 2.2 高纯度氮化镓纳米线的制备及表征 43-52 2.2.1 实验设备及测试仪器 43-44 2.2.2 样品的制备 44-45 2.2.3 样品的表征 45 2.2.4 结果与讨论 45-52 2.2.4.1 物相、成分分析 45-46 2.2.4.2 场发射电镜(FESEM)分析 46-47 2.2.4.3 高分辨透射电镜(HRTEM)分析 47-48 2.2.4.4 PL谱分析 48-49 2.2.4.5 基本理论及机理探讨 49-52 2.3 催化剂法合成氮化镓纳米线 52-59 2.3.1 实验方法 52-53 2.3.2 X射线衍射分析 53 2.3.3 场发射扫描图像分析 53-54 2.3.4 高分辨图像观察 54-55 2.3.5 EDS谱图分析 55-56 2.3.6 生长机理分析 56-59 2.4 氮化镓纳米带的制备 59-62 2.4.1 实验方法 59 2.4.2 扫描电镜图像测试 59-60 2.4.3 高倍 FESEM图像 60-61 2.4.4 EDS分析 61 2.4.5 生长机理初步分析 61-62 2.5 氮化镓其它结构的合成 62-64 2.5.1 制备工艺过程及形貌测试 62-63 2.5.2 制备工艺过程及形貌测试 63-64 2.6 氮化镓薄膜的工艺探索 64-66 2.7 本章小结 66-68 第三章 氧化锌纳米材料的制备和表征 68-86 3.1 引言 68-69 3.2 水热法制备氧化锌纳米棒 69-78 3.2.1 背景介绍 69 3.2.2 使用试剂及装置 69-70 3.2.3 样品的制备 70 3.2.4 样品的表征 70-71 3.2.5 结果与讨论 71-78 3.2.5.1 XRD图谱 71 3.2.5.2 微观结构与形貌观察 71-72 3.2.5.3 HRTEM图像观察 72 3.2.5.4 生长机理初步分析 72-76 3.2.5.5 PL谱分析 76-77 3.2.5.6 EDS分析 77-78 3.2.5.7 红外光谱分析 78 3.3 碳热还原法制备氧化锌材料 78-85 3.3.1 介绍 78-79 3.3.2 ZnO晶体的制备 79-80 3.3.3 产物的表征 80 3.3.4 XRD分析 80 3.3.5 微观形貌与结构分析 80-82 3.3.6 生长机理的初步探讨 82-84 3.3.7 光学性能分析 84-85 3.3.8 EDS图谱分析 85 3.4 本章小结 85-86 第四章 总结与展望 86-89 参考文献 89-99 致谢 99-100 攻读学位期间发表的学术论文、专利目录 100
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 一般性问题 > 材料
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