学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示
NiZn铁氧体薄膜及其性能研究
作 者: 游昕
导 师: 刘颖力
学 校: 电子科技大学
专 业: 材料物理与化学
关键词: NiZn铁氧体薄膜 饱和磁化强度 退火温度 铁磁共振线宽
分类号: TM277
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
下 载: 149次
引 用: 0次
阅 读: 论文下载
内容摘要
|
NiZn铁氧体材料作为一种微波旋磁铁氧体材料,具有高的旋磁特性,低损耗、宽频率范围、高功率负荷以及良好温度稳定性等特点,广泛应用于隔离器、相移器、环形器、调制器等微波铁氧体器件。随着现代电子器件的小型化与微型化,NiZn铁氧体薄膜的应用日益广泛,如高频薄膜电感、高频薄膜变压器等。本文以射频磁控溅射法制备NiZn旋磁铁氧体薄膜为主要研究内容,通过理论分析与大量实验,针对薄膜材料的主要技术参数,分析退火温度,基片,靶材等多种因素对薄膜性能的影响,并对其微波旋磁性能进行了研究,研制既具有优异的磁性能又适合于在高频下应用的NiZn铁氧体薄膜材料。首先通过靶材制备,基片清洗等前期准备,完成薄膜制备需要达到的客观条件,然后使用射频磁控溅射仪在Si(100)基片上制备NixZn(1-x)Fe2O4铁氧体薄膜。通过对薄膜样品的XRD、AFM、SEM、VSM测试数据进行分析,进而明确了制备薄膜过程中溅射功率、溅射气压、薄膜厚度、基片温度等前处理工艺对薄膜性能影响,用于选取最优的解决办法对薄膜进行制备。然后对后处理工艺和基片、材料配比等其他影响薄膜性能的因素加以分析。最后再对薄膜按照微波旋磁器件的要求,通过传输式谐振腔进行铁磁共振线宽ΔH的测试,综合上面各种参数的影响,对制备参数进行了优化选择。在Si(100)基片上,在1Pa气压下溅射,膜厚为800nm,经过800℃退火,得到Ni0.6Zn0.4Fe2O4薄膜,饱和磁化强度Ms=150e.m.u/cc,矫顽力Hc=110Oe,铁磁共振线宽ΔH=140Oe的NiZn旋磁铁氧体薄膜材料。
|
全文目录
摘要 4-5 ABSTRACT 5-9 第一章 绪论 9-16 1.1 引言 9 1.2 铁氧体薄膜的应用 9-13 1.2.1 薄膜电感 10-12 1.2.2 微波器件 12-13 1.3 微波旋磁材料的发展 13-15 1.3.1 NiZn 软磁铁氧体材料的发展现状 14-15 1.3.2 NiZn 铁氧体薄膜材料的发展 15 1.4 本论文的主要研究内容 15-16 第二章 NiZn 铁氧体薄膜的制备、表征和测试方法 16-28 2.1 实验方法及过程 16 2.2 薄膜的制备方法 16-18 2.3 NiZn 铁氧体薄膜的制备 18-21 2.3.1 靶材的制备 18-20 2.3.2 基片的选择与清洗 20-21 2.4 薄膜的分析和测试 21-27 2.4.1 薄膜的相结构分析 21-22 2.4.2 薄膜的微观形貌分析 22-23 2.4.3 薄膜的直流磁性能测试 23-24 2.4.4 薄膜旋磁性能的测试 24-27 2.5 本章小结 27-28 第三章 NiZn 铁氧体薄膜的微观结构和磁性能 28-51 3.1 薄膜制备 28 3.2 薄膜的微观结构与形貌分析 28-31 3.2.1 薄膜的微观结构及成分 28-30 3.2.2 薄膜的微观形貌 30-31 3.3 制备工艺对薄膜性能的影响 31-43 3.3.1 溅射功率对薄膜的影响 31-36 3.3.2 溅射气压对薄膜的影响 36-39 3.3.3 薄膜厚度对性能的影响 39-41 3.3.4 基片温度对薄膜的影响 41-43 3.4 后处理工艺对薄膜的影响 43-50 3.4.1 常规退火处理 44-48 3.4.2 快速退火处理 48-50 3.5 本章小结 50-51 第四章 其他条件对 NiZn 薄膜的影响 51-57 4.1 基片对性能的改善 51-53 4.2 NI_XZN_((1-X))FE_2O_4铁氧体薄膜的比较 53-55 4.3 电阻率的测量 55 4.4 本章小结 55-57 第五章 NiZn 铁氧体薄膜的微波磁性能 57-63 5.1 铁磁共振线宽ΔH 测试 57-61 5.1.1 谐振腔微扰理论 57-59 5.1.2 谐振腔测量方法 59-61 5.2 样品测量分析 61-62 5.3 本章小结 62-63 第六章 结论 63-65 致谢 65-66 参考文献 66-70 攻读硕士期间所取得的研究成果 70-71
|
相似论文
- Ku波段高功率NiZn微波铁氧体材料性能研究及仿真应用,TM277
- 高功率低损耗移相器铁氧体材料设计及数据库建立,TM277
- 铜基自组装扩散阻挡层的工艺研究,TN405
- 异步轧制对硅钢薄带织构和磁性能影响机理的研究,TG335
- 退火温度对BENT薄膜铁电性能和残余应力的影响,TB383.2
- 溶胶凝胶法制备有序介孔二氧化钛薄膜及性能研究,O484.4
- NiZn铁氧体薄膜性能影响因素研究,TM277
- 钛酸铋钠—钛酸钡无铅压电薄膜制备及性能研究,TM282
- 连续退火炉炉辊温度场及炉内带钢热瓢曲研究,TG155.1
- 磁场热处理对磁性材料性能的影响,O484.43
- Ni/PZT层状磁电复合材料的制备与性能研究,TB33
- 聚合物有机太阳能电池器件的性能研究,TM914.4
- 硅基红外发光材料研究,TB34
- 溅射法制备NiZn铁氧体薄膜工艺技术研究,TB383.2
- 稀土Nd掺杂FeCo纳米磁性薄膜的结构和磁性,TB383.2
- 高精度高稳定铬硅薄膜电阻制备技术研究,O484.1
- FeCo基纳米晶合金有效磁各向异性与磁致伸缩研究,O482.5
- 含Co FINEMET纳米晶合金的磁致伸缩与有效磁各向异性研究,TB383.1
- Cu-MgF_2复合纳米金属陶瓷薄膜的制备、微结构和性能的研究,TB43
- a-C:F薄膜热稳定性及N_2热处理对其结构和性质的影响,TB383
中图分类: > 工业技术 > 电工技术 > 电工材料 > 磁性材料、铁氧体 > 铁氧体、氧化物磁性材料
© 2012 www.xueweilunwen.com
|