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0.13μm pMOSFET的NBTI效应研究
作 者: 解江
导 师: 刘毅;恩云飞
学 校: 西安电子科技大学
专 业: 软件工程
关键词: 可靠性 NBTI 0.13μm CMOS工艺 PMOSFET
分类号: TN432
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
下 载: 62次
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内容摘要
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随着集成电路工艺尺寸不断减小,负偏置温度不稳定性(NBTI)效应对CMOS电路的影响日趋严重,其导致的PMOSFET的参数退化现象越来越不可忽视,成为制约CMOS电路寿命的主要因素之一。本文主要针对0.13μm铜互连工艺的PMOSFET的NBTI效应进行了深入研究。设计了NBTI测试结构,完成了版图设计和样品的流片及封装。规划了NBTI试验方案,对NBTI寿命模型的相关参数进行了测试和参数提取,确立了0.13μm的NBTI寿命模型,并与0.18μm CMOS工艺PMOSFET的NBTI寿命模型进行了比对分析。基于实际电路工作状态的考虑,以0.18μm工艺PMOSFET为试验对象,进行了动态NBTI效应的研究,对各种动态NBT应力下PMOSFET的参数退化情况进行了研究讨论。NBTI可靠性寿命试验方面,本文分别进行了NBTI效应时间参数、激活能、电场加速系数、器件参数的提取,较理想的拟合了0.13μm铜互连工艺的NBTI效应的退化状况。根据试验结果建立了器件寿命模型,推算出0.13μm电路在PMOSFET栅压为1.32V时,阈值电压漂移100mV需要的时间为18.1年。将其与0.18μm工艺提取的寿命参数相比较,确定了不同工艺水平对NBTI效应的影响程度。对动态NBTI效应进行了研究讨论,研究明确了频率、占空比、正栅压等应力情况下PMOSFET的阈值电压退化状况,确定了器件尺寸参数对动态NBTI效应的影响程度。
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全文目录
摘要 5-6 Abstract 6-9 第一章 绪论 9-19 1.1 研究背景及意义 9-13 1.1.1 半导体集成电路行业发展现状 9-11 1.1.2 NBTI 效应及其对大规模集成电路的可靠性影响 11-13 1.1.3 0.13μm CMOS 工艺PMOSFET 中NBTI 效应的研究意义 13 1.2 NBTI 效应国内外研究现状 13-16 1.2.1 NBTI 机理研究 14 1.2.2 NBTI 效应与栅氧介质及工艺的关系 14-15 1.2.3 NBTI 效应对于电路性能的影响 15 1.2.4 NBTI 和HCI 互耦合机制的研究 15-16 1.3 本论文研究内容 16-19 第二章 NBTI 测试结构及试验条件准备 19-27 2.1 测试结构预计及设计 19-22 2.2 温度应力的精准控制测试结构化 22-24 2.3 封装与测试 24-27 第三章 NBTI 试验及测试方案 27-33 3.1 测试方案思路 27-31 3.1.1 加速寿命模型 27-29 3.1.2 试验目标及试验设计 29-31 3.2 阈值电压及其他参数的测定方法 31-33 第四章 PMOSFET 的 NBTI 退化情况及其机理 33-41 4.1 PMOSFET 静态参数随NBTI 应力时间的退化 33-36 4.2 引起NBTI 效应机理介绍 36-41 第五章 NBTI 寿命试验 41-49 5.1 应力时间t 与阈值电压漂移量的关系 41-43 5.2 温度应力T 与阈值电压漂移量的关系 43-44 5.3 栅极电压Vgs 与阈值电压漂移量的关系 44-45 5.4 器件尺寸W 与L 与阈值电压漂移量的关系 45-46 5.5 NBTI 寿命模型建立 46-49 第六章 动态NBTI 效应研究 49-61 6.1 动态NBTI 效应的机理 50-52 6.1.1 动态NBTI 效应与频率的关系 50 6.1.2 动态NBTI 效应与占空比的关系 50-51 6.1.3 动态NBTI 效应与应力栅电场的关系 51-52 6.2 动态NBTI 效应的试验设置 52 6.3 动态 NBTI 试验及分析 52-57 6.3.1 动态 NBTI 下 PMOSFET 的退化情况 53 6.3.2 动态 NBTI 不同频率下阈值电压的退化 53-54 6.3.3 动态 NBTI 不同占空比的情况下阈值电压的退化 54-55 6.3.4 动态 NBTI 不同温度的情况下阈值电压的退化 55-56 6.3.5 动态 NBTI 不同电应力条件下阈值电压的退化 56-57 6.4 动态 NBTI 效应模型 57-61 第七章 结束语 61-63 致谢 63-64 参考文献 64-68
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 微电子学、集成电路(IC) > 半导体集成电路(固体电路) > 场效应型
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