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La_2Mo_3O_(12)薄膜的制备和光学性能的研究
作 者: 姜雅丽
导 师: 袁斌
学 校: 郑州大学
专 业: 光学
关键词: 自制靶材 La2Mo3O12薄膜 射频磁控溅射 微观结构 光学性能
分类号: O484.1
类 型: 硕士论文
年 份: 2010年
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内容摘要
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稀土钼酸镧有多种结构,但研究比较多的为La2Mo2O9、La2Mo8O33、La2Mo3O12三种相。La2Mo2O9在580℃附近从低温α相向高温β相转变,转变后氧离子的传导性可提高两个数量级。La2Mo8O33是一种非同寻常的、缺陷有序排列的白钨矿结构,其阳离子缺乏及额外氧原子同时存在,与白钨矿结构PbWO4发冷光的特点类似,是探测器闪烁晶体的潜在材料。白钨矿结构超细La2Mo3O12微粒,可提高常用烃类发生选择氧化反应时作为催化剂的催化性能;掺杂后其吸收峰变宽,阈值低,增益大,效率高,是很好的激光晶体材料。不仅如此,La2Mo3O12是稀土钼酸盐中完全不吸水,且呈现正膨胀特性的物质,与Y2Mo3O12的膨胀系数和晶格常数相匹配,二者合成后可制成零膨胀材料,用于高能激光器,航空航天飞行器中。文献表明,La2Mo3O12高温下是四面体结构,且结构中存在大量的氧空位,其三价阳离子有非同寻常的传导性,可应用于多种领域,但La2Mo3O12在室温下的结构和薄膜制备及光学性能研究未见报道。研究La2Mo3O12薄膜及光学性能,对于拓展其在探测器、光致发光等方面的应用具有实际价值。本文采用固相反应法自制靶材、磁控溅射法制La2Mo3O12薄膜,使用SEM、XRD、UV-vis分光光度计、椭圆偏振仪等对制备的样品进行了表征,研究了制备工艺、退火温度对其结构和微观形貌的影响,研究了薄膜的光吸收性能和光学常数。主要结论如下:1.采用改进的固相反应法自制靶材。其最佳工艺参数为800℃、2h烧结成粉体,18MPa下冷等静压成原始胚体,空气氛围下950℃、4h二次烧结成靶材。颜色是浅黄色,表面平整、致密,收缩率为9%。2.采用射频磁控溅射法,用自制靶材,制备出符合化学计量比的La2Mo3O12薄膜。本实验最佳工艺参数为:溅射功率180W,溅射电压800V,溅射电流200mA,背景真空1.3Pa,衬底温度180℃-240℃,工件转速是60rpm。3.适当的退火温度能改善La2Mo3O12薄膜的表面形貌、晶体结构和晶粒分布。(1)未退火的La2Mo3O12薄膜,晶粒大小不一,呈细条形,表面凸凹不平,退火后薄膜表面变得比较平整,致密,样品结晶成树叶形状,晶粒大小变得比较均匀,为细小的枝晶结构,出现比较明显的晶界。(2)未退火的La2Mo3O12薄膜呈现典型的非晶状态,退火后结晶明显,实验发现,薄膜易结晶成四面体结构,700℃-750℃是比较理想的退火温度。4.La2Mo3O12薄膜的结构和光学性能用射频磁控溅射法制备了四面体结构的薄膜,随沉积温度的提高,在近紫外区透过率没有明显变化,光吸收性能非常好,其光学常数满足正常的色散关系。La2MoO12薄膜是直接带隙半导体,电子发生了间接跃迁,计算出薄膜的光学带隙大约是3.52eV折射率在1.8到2.15之间,为该材料在光学方面的应用,特别是在制作紫外光电探测器方面提够了理论依据。
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全文目录
摘要 4-6 Abstract 6-11 第一章 绪论 11-20 1.1 钼酸镧基的结构、性质 11-15 1.1.1 La_2Mo_2O_9的结构和性质 11-12 1.1.2 La_2Mo_2O_9掺杂的结构和性质 12-13 1.1.3 La_6Mo_8O_33结构和性质 13 1.1.4 La_2Mo_3O_12结构和性质 13-15 1.2 钼酸镧基的应用 15-17 1.2.1 La_2Mo_2O_9的应用 15-16 1.2.2 La_2Mo_3O_12即其掺杂的应用 16-17 1.3 钼酸镧基薄膜的制备和性质 17-18 1.4 本论文研究的目的、内容 18-20 第二章 薄膜的制备及生长特点 20-34 2.1 薄膜制备方法 20-26 2.1.1 真空蒸发 20 2.1.2 分子束外延 20 2.1.3 溶胶凝胶法 20-21 2.1.4 化学气相沉积 21 2.1.5 脉冲激光沉积 21-22 2.1.6 喷雾热解法 22 2.1.7 溅射法 22-26 2.2 薄膜生长特点 26-28 2.2.1 薄膜的生长模式 26-27 2.2.2 薄膜中的缺陷 27-28 2.2.3 薄膜的致密度 28 2.3 薄膜的表征方法 28-33 2.3.1 Χ射线衍射仪 29 2.3.2 扫描电子显微镜 29-30 2.3.3 拉曼(Raman)光谱仪 30 2.3.4 椭圆偏振仪 30-32 2.3.5 紫外-可见分光光度计 32-33 2.4 本章小结 33-34 第三章 La_2Mo_3O_12薄膜的制备和实验参数对薄膜的影响 34-48 3.1 靶材的制备和表征 34-39 3.1.1 La_2Mo_3O_12粉末制备和表征 34-37 3.1.2 靶材的制备和表征 37-39 3.2 La_2Mo_3O_12薄膜的制备 39-46 3.2.1 实验设备 39-40 3.2.2 实验步骤和实验参数 40-42 3.2.3 影响沉积速率的因素和分析 42-46 3.3 本章小结 46-48 第四章 热处理对La_2Mo_3O_12薄膜结构的影响 48-54 4.1 实验 48-49 4.2 表征方法 49 4.3 结果和讨论 49-53 4.3.1 表面形貌 49-51 4.3.2 XRD分析 51-53 4.4 本章总结 53-54 第五章 La_2Mo_3O_12薄膜的光学性能研究 54-62 5.1 薄膜的制备 54-55 5.2 测试方法 55 5.3 结果与讨论 55-61 5.3.1 表面形貌 55-56 5.3.2 XRD分析 56-57 5.3.3 光吸收性能 57-59 5.3.4 光学常数 59-61 5.4 本章小结 61-62 第六章 全文总结 62-65 参考文献 65-69 个人简历 69-70 致谢 70
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中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学 > 薄膜的生长、结构和外延
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