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LB基底上生长ZnO纳米棒的研究
作 者: 韩帅
导 师: 唐冬雁
学 校: 哈尔滨工业大学
专 业: 无机化学
关键词: LB技术 溶液法 择优取向生长 ZnO纳米棒
分类号: TB383.1
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
下 载: 23次
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内容摘要
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六方晶系结构的ZnO是一种重要的宽禁带氧化物半导体材料,室温下带隙宽度为3.37eV,并且具有较大的激子束缚能(60meV),容易与其他类型的半导体材料实现集成化使用。在基底上高度规则有序生长的ZnO一维纳米结构可以用来制作表面声波仪、透明电极和短波激光器等功能器件,特别是在室温下发现ZnO纳米棒具有光致紫外发光的性能,因而高质量择优取向ZnO纳米棒的生长研究意义明显。采用Langmuir-Blodgett(LB)技术,在玻璃基底上获得均匀的ZnO薄膜,确定了ZnO薄膜的制备工艺参数:在亚相溶液浓度为0.10mol·L-1,滑障速度约为5mm·min-1,铺展液静置时间为1030min,铺展量为80μL,转移膜压为28mN·m-132mN·m-1,基片提拉速度4mm·min-16mm·min-1的条件下,能够得到转移比在1.0附近的硬脂酸/Zn2+复合LB膜。经高温退火处理后可以得到ZnO薄膜。XRD测试结果表明硬脂酸/Zn2+复合LB膜结晶度较低,无ZnO的特征衍射峰,经过退火处理后制得的薄膜为ZnO晶体薄膜,呈六方晶系结构,且结晶度高。SEM表征结果显示,通过LB技术制备的ZnO薄膜表面光滑平整、颗粒尺寸均匀。UV-Vis结果说明,纳米ZnO薄膜在266nm左右和在360nm左右有吸收峰,当薄膜层数变化不大的情况下,薄膜对光的吸收强度变化也不大,说明制得的薄膜各层之间及每个膜层都是均匀的。以LB技术获得的ZnO薄膜为种子膜,采用溶液法在ZnO种子膜上生长ZnO纳米棒,探讨了种子膜拉膜层数、加热环境、生长温度、生长时间、生长液浓度等因素对生长ZnO纳米棒的影响。XRD检测结果表明,制得的ZnO纳米棒为六方纤锌矿结构,结晶度高,沿(002)晶面择优取向性良好。SEM观测结果表明,可以通过调节各影响因素值,获得高度定向生长、排列规则紧密、直径尺寸均匀以及长径比稳定的ZnO纳米棒。UV-Vis透光光谱表征结果表明,纳米棒阵列结构对ZnO光学性能有较大的影响,当ZnO纳米棒沿C轴方向择优取向性较好、表面粗糙度较低的时候,可见光在纳米棒阵列中的反射减少,使得透光率增大。即良好的纳米棒阵列结构能够有效的提高ZnO材料的光学性能。
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全文目录
摘要 4-5 ABSTRACT 5-9 第1章 绪论 9-17 1.1 课题背景及研究目的和意义 9-10 1.2 ZnO 的研究现状及其制备方法 10-12 1.2.1 溶胶-凝胶法(Sol-Gel) 11 1.2.2 激光溅射沉积技术(PLD) 11 1.2.3 分子束外延法(MBE) 11-12 1.2.4 化学气相沉积技术(CVD) 12 1.2.5 喷雾热解法(Sprayer Pyrolysis) 12 1.3 LB 技术组装纳米粒子膜的研究现状 12-14 1.3.1 LB 技术组装纳米材料的方法 13 1.3.2 利用LB 技术组装排布纳米材料的应用 13-14 1.4 ZnO 纳米棒的研究现状及其生长方法 14-15 1.4.1 超声波法和微波法 14 1.4.2 水热法 14-15 1.4.3 化学溶液沉积法 15 1.4.4 模板法 15 1.5 论文主要研究内容 15-17 第2章 实验材料与表征测试方法 17-23 2.1 实验试剂与设备 17-18 2.1.1 实验试剂 17 2.1.2 实验仪器及实验设备 17-18 2.2 基片处理 18-19 2.3 ZnO 种子膜的制备 19-20 2.3.1 硬脂酸/Zn~(2+)复合LB 薄膜的制备 19-20 2.3.2 热分解法制备ZnO 种子膜 20 2.4 ZnO 纳米棒的制备 20-21 2.4.1 生长液的制备 20-21 2.4.2 ZnO 纳米棒的生长 21 2.5 本论文实验测试方法 21-23 2.5.1 膜压-膜面积曲线的测定方法 21 2.5.2 X 射线衍射(XRD)分析 21 2.5.3 扫描电子显微镜(SEM)分析 21 2.5.4 紫外-可见光谱(UV-Vis)分析 21-23 第3章 ZnO 种子膜的制备与表征 23-39 3.1 前言 23 3.2 硬脂酸/Zn~(2+)成膜工艺参数的确定 23-27 3.2.1 亚相浓度对硬脂酸/Zn~(2+) Langmuir 膜崩溃压的影响 23-24 3.2.2 铺展量对硬脂酸/Zn~(2+) Langmuir 膜崩溃压的影响 24-26 3.2.3 滑障速度对硬脂酸/Zn~(2+) Langmuir 膜崩溃压的影响 26 3.2.4 静止时间对硬脂酸/Zn~(2+) Langmuir 膜崩溃压的影响 26-27 3.3 硬脂酸/Zn~(2+)拉膜工艺参数的确定 27-29 3.3.1 转移膜压对转移比的影响 27-28 3.3.2 提拉速度对转移比的影响 28-29 3.4 ZnO 种子膜制备过程的参数确定 29-30 3.5 ZnO 种子膜的表征 30-37 3.5.1 XRD 分析 30-32 3.5.2 UV-Vis 吸收光谱分析 32-34 3.5.3 SEM 形貌观察及分析 34-37 3.6 本章小结 37-39 第4章 ZnO 纳米棒的制备及表征 39-58 4.1 前言 39 4.2 恒温干燥方式制备ZnO 纳米棒的过程及分析 39-51 4.2.1 影响ZnO 纳米棒生长参数的确定 39-40 4.2.2 XRD 检测结果及分析讨论 40-42 4.2.3 UV-Vis 检测结果及分析讨论 42 4.2.4 SEM 表征结果及分析讨论 42-51 4.3 恒温水浴方式制备ZnO 纳米棒的过程及分析 51-57 4.3.1 影响ZnO 纳米棒生长参数的确定 51 4.3.2 XRD 检测结果及分析讨论 51-52 4.3.3 UV-Vis 检测结果及分析讨论 52-53 4.3.4 SEM 表征结果及分析讨论 53-57 4.4 本章小结 57-58 结论 58-59 参考文献 59-65 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 65-67 致谢 67
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中图分类: > 工业技术 > 一般工业技术 > 工程材料学 > 特种结构材料
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