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聚偏氟乙烯—四氧化三铁超滤膜的研究
作 者: 郑凤
导 师: 黄征青
学 校: 湖北工业大学
专 业: 化学工艺
关键词: 聚偏氟乙烯 四氧化三铁 超滤 有机-无机 磁场
分类号: O484.1
类 型: 硕士论文
年 份: 2010年
下 载: 63次
引 用: 1次
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内容摘要
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聚偏氟乙烯(PVDF)有良好的化学稳定性、耐温性等优势,但强疏水性限制了PVDF超滤膜的应用,因此近年来制备有机-无机杂化膜的研究受到大量关注。目前,以PVDF为基材、采用磁性四氧化三铁(Fe304)作为无机填料制备有机-无机杂化超滤膜的研究较尚未见报道;若在制膜过程中外加磁场将改变磁性Fe304粒子的排列,并可能对膜的结构和性能产生影响,目前相关研究较少。本文首先采用浸没沉淀相转化法制备PVDF-Fe3O4杂化超滤膜(称为未磁化膜),通过超滤实验评价膜的通量、截留率、耐污染性、强度等性能,并用扫描电镜(SEM)观察膜的断面结构,研究Fe304含量和PVDF浓度对未磁化膜的影响。然后在凝胶浴外使用水平磁场,在其他条件完全相同的条件下制备PVDF-Fe3O4杂化超滤膜(称为磁化膜),并研究Fe304含量和PVDF浓度对磁化膜的影响。最后比较磁化膜与未磁化膜性能与结构的差别,并测试磁化膜与未磁化膜的接触角、红外光谱和动态力学实验(DMA),进一步探讨磁场对制备PVDF-Fe3O4杂化超滤膜的影响。研究结果表明,在无磁场条件下制膜,当Fe304含量低于65wt%时,膜通量随Fe304含量缓慢上升,当Fe304含量在65wt%~80wt%之间时,纯水通量迅速上升;随着Fe304含量的增加,截留率表现为先缓慢上升,当填料量为65wt%后基本稳定;填料含量为70wt%~75wt%的未磁化膜强度较好;从未磁化膜的断面SEM照片可知,Fe304粒子对皮层影响不大,但能使支撑层得到更疏松的结构。PVDF浓度为14.6wt%,Fe3O4含量为70wt%时,未磁化膜综合性能较好。磁化膜得到了与未磁化膜相似的规律,但从Fe304含量为60wt%磁化膜断面SEM照片可知,磁场改变了Fe304粒子的排列,增加了支撑层中大孔和微孔的数量,并能大幅加强支撑层在平行于膜表面方向上的贯通性;当PVDF浓度为14.6wt%,Fe3O4含量为70wt%时,磁化膜综合性能较好。比较有/无磁场下制备的磁化膜与未磁化膜结构和性能的差异可知,磁场能增加膜的纯水通量、提高膜的亲水性,但对截留率几乎没有影响。
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全文目录
摘要 4-5 Abstract 5-6 目录 6-8 第1章 引言 8-18 1.1 超滤技术 8-11 1.1.1 超滤的原理 8 1.1.2 超滤膜的分类 8-9 1.1.3 超滤膜制备工艺 9-10 1.1.4 有机超滤膜的研究现状及存在的问题 10-11 1.2 聚偏氟乙烯超滤膜的研究现状 11-14 1.2.1 聚偏氟乙烯的特点 11 1.2.2 聚偏氟乙烯相转化膜制备工艺 11-12 1.2.3 聚偏氟乙烯膜的亲水改性 12-14 1.3 有机-无机杂化膜的研究现状 14-16 1.3.1 有机-无机膜的制备 15 1.3.2 无机粒子对有机-无机膜的影响 15-16 1.4 研究目的、意义和方法 16-18 1.4.1 选题思路 16-17 1.4.2 研究目的 17 1.4.3 研究意义 17 1.4.4 研究方法 17-18 第2章 实验部分 18-23 2.1 实验材料与药品 18 2.2 实验方法 18-23 2.2.1 膜的制备 19-20 2.2.2 膜的超滤性能与结构表征 20-22 2.2.3 其它性能与参数的测定 22-23 第3章 PVDF-Fe_3O_4未磁化膜的研究 23-36 3.1 Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4未磁化膜的影响 23-32 3.1.1 Fe_3O_4含量对未磁化膜超滤性能和断面结构的影响 23-28 3.1.2 Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4未磁化膜强度的影响 28-32 3.2 PVDF浓度对PVDF-Fe_3O_4未磁化膜的影响 32-35 3.3 本章小结 35-36 第4章 水平磁场下制备PVDF-Fe_3O_4磁化膜的研究 36-52 4.1 Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4磁化膜的影响 36-48 4.1.1 Fe_3O_4含量对磁化膜超滤性能和断面结构的影响 36-45 4.1.2 Fe_3O_4含量对PVDF-Fe_3O_4磁化膜强度的影响 45-48 4.2 PVDF浓度对PVDF-Fe_3O_4磁化膜的影响 48-50 4.3 本章小结 50-52 第5章 有/无磁场下制膜对PVDF-Fe_3O_4超滤膜的影响 52-60 5.1 有/无磁场下制膜对超滤性能和断面结构的影响 52-56 5.2 有/无磁场下制膜对其它性能与参数的影响 56-58 5.2.1 有/无磁场下制膜对接触角的影响 56-57 5.2.2 有/无磁场下制膜对红外光谱的影响 57-58 5.2.3 水平磁场下制膜对Tg的影响 58 5.3 本章小结 58-60 第6章 结论与展望 60-63 6.1 结论 60-61 6.2 展望 61-63 参考文献 63-67 致谢 67-68 硕士期间参与的课题、发表的文章及取得的成果 68
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中图分类: > 数理科学和化学 > 物理学 > 固体物理学 > 薄膜物理学 > 薄膜的生长、结构和外延
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