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纳米MOSFET散粒噪声抑制及其应用
作 者: 唐冬和
导 师: 杜磊
学 校: 西安电子科技大学
专 业: 材料学
关键词: 纳米MOSFET 过剩噪声 散粒噪声抑制 Monte Carlo模拟
分类号: TN386.1
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
下 载: 17次
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内容摘要
随着MOS器件尺寸的缩小,其过剩噪声日益增加,且过剩噪声主要成分逐渐从热噪声转变为散粒噪声。基于纳米MOSFET输运机制的改变以及热噪声和散粒噪声的物理起源,本文在纳米MOSFET准弹道输运电流模型的基础上,推导了其过剩噪声主要成分转变的条件,由该转变条件能准确预测纳米MOSFET的噪声特性。为了定量描述纳米MOSFET电流噪声,本文推导了纳米器件电流噪声的散射理论统一模型,该模型适用于器件从相干输运到非相干输运的整个输运范围,并同时考虑了泡利不相容原理和库仑作用对散粒噪声的抑制。因此,本文模型可用于描述实际纳米MOSFET的散粒噪声抑制特性。在上述工作的基础上,本文对纳米MOSFET散粒噪声特性进行了Monte Carlo模拟研究,得到了散粒噪声抑制因子与偏置电压、工作温度以及源漏掺杂浓度之间的关系。
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全文目录
摘要 3-4 Abstract 4-7 第一章 绪论 7-11 1.1 研究背景与意义 7-9 1.2 论文结构 9-11 第二章 纳米MOSFET散粒噪声存在性论证 11-19 2.1 数据证明 11-14 2.2 理论解释 14-18 2.2.1 存在性分析 14-17 2.2.2 MOSFET弱反型区电流噪声分析 17-18 2.3 本章小结 18-19 第三章 纳米MOSFET电流噪声成分转变条件分析 19-33 3.1 介观导体散粒噪声 19-22 3.2 转变条件分析 22-31 3.2.1 准弹道输运电流模型 22-26 3.2.2 转变条件 26-27 3.2.3 理论结果的对比和讨论 27-31 3.3 纳米MOSFET低噪声化新思路 31-32 3.4 本章小结 32-33 第四章 纳米MOSFET散粒噪声抑制模型 33-49 4.1 传统散射理论的局限性 33-36 4.2 散射理论统一模型 36-44 4.2.1 非相干输运 36-37 4.2.2 库仑作用的引入 37-39 4.2.3 散射理论统一模型 39-44 4.3 数值模拟方法 44-48 4.4 本章小结 48-49 第五章 纳米MOSFET散粒噪声的Monte Carlo模拟 49-59 5.1 Monte Carlo模拟 49-54 5.1.1 注入模型 49-51 5.1.2 程序流程图 51-54 5.2 模拟结果分析 54-58 5.2.1 偏置电压对散粒噪声抑制的影响分析 54-56 5.2.2 温度及源漏掺杂浓度对散粒噪声抑制的影响分析 56-58 5.3 本章小结 58-59 第六章 总结与展望 59-61 6.1 论文总结 59 6.2 展望 59-61 致谢 61-63 参考文献 63-69 作者在读期间的研究成果 69-70
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 半导体技术 > 场效应器件 > 金属-氧化物-半导体(MOS)器件
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