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900nm～1100nm抗激光损伤高反射膜的研究

作　者: 赵缨慰
导　师: 付秀华
学　校: 长春理工大学
专　业: 光学工程
关键词: 光学薄膜高反射膜激光损伤消偏振
分类号: O484.41
类　型: 硕士论文
年　份: 2010年
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内容摘要

针对光学仪器的使用要求,在10*1.8mm的K9基底镀制抗激光损伤的高反射薄膜,能够同时满足半导体激光器和YAG激光器作为光源的特殊应用。本文根据薄膜干涉原理和使用技术要求进行膜料的选择、利用TFC软件进行膜系设计。采用电子束真空镀膜并加以考夫曼离子源辅助沉积,通过对镀制后基片的测试结果分析,调整镀膜工艺参数和监控方法减小了膜厚误差。选择TiO2和SiO2作为高低折射率材料,解决了薄膜的光学损耗和抗激光损伤等问题。制备出的抗激光高反射薄膜,当激光以45°角入射时,在900nm-1100nm波段间的P光与S光的反射率大于99.95%；并且通过环境检验,膜层能够工作于恶劣的空间环境和承受强激光光源的照射,满足使用要求。

全文目录

摘要  4-5
Abstract  5-7
第一章绪论  7-9
  1.1 薄膜光学的发展  7-8
  1.2 激光薄膜的应用  8
  1.3 论文研究的主要内容  8-9
第二章光学薄膜的理论基础  9-21
  2.1 单层介质薄膜的反射率  9-13
  2.2 多层介质薄膜的反射率  13-15
  2.3 低损耗的激光反射镜设计  15-18
  2.4 薄膜的消偏振技术  18-21
第三章膜系设计  21-30
  3.1 膜料选择  21-22
  3.2 膜系设计  22-30
第四章镀制工艺  30-37
  4.1 镀膜机原理及配置  30-32
  4.2 镀膜工艺  32-37
第五章测试结果与分析  37-41
  5.1 光谱性能测试与分析  37
  5.2 抗损伤阈值测试与分析  37-40
  5.3 高反膜的机械强度测试  40
  5.4 高反膜的误差分析  40-41
总结  41-42
致谢  42-43
参考文献  43-44

900nm～1100nm抗激光损伤高反射膜的研究

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