学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示

二氧化钒薄膜制备及其热致变色特性研究

作 者: 刘东青
导 师: 郑文伟
学 校: 国防科学技术大学
专 业: 材料科学与工程
关键词: 二氧化钒 薄膜 热致变色 溶胶-凝胶 发射率 热红外 自适应伪装
分类号: TB34
类 型: 硕士论文
年 份: 2009年
下 载: 154次
引 用: 0次
阅 读: 论文下载
 

内容摘要


二氧化钒(VO2)是一种热致变色氧化物,在68℃时发生由绝缘态向金属态的转变,同时伴随着电学、光学等物理性质的突变。尤其在热红外波段,VO2薄膜具有优异的热致变发射率特性。本文瞄准当代伪装隐身技术的发展趋势,针对自适应伪装发展对材料的急需,提出将VO2薄膜作为可变发射率材料用于热红外自适应伪装的想法,并对其制备工艺和热致变色特性进行研究。本文以V2O5为原料,通过溶胶-凝胶工艺和热处理工艺来制备VO2薄膜。研究了V2O5溶胶制备工艺,分析了溶胶形成机理和稳定性,并选择石英片作为V2O5薄膜的主要基片;详细研究了溶胶-凝胶浸涂工艺对薄膜厚度的影响。结果表明,浸涂速度为6mm/s,溶胶粘度为40.16mPa·s,浸涂4次时薄膜厚度接近1μm,且薄膜表面质量完好。基于热力学计算和分析,详细研究了热处理工艺对VO2薄膜制备的影响。结果表明:随着温度的升高V2O5分解生成VO2所需的真空度大幅降低;为保证制备出的VO2薄膜的表面质量,须对V2O5薄膜进行慢速预热处理;真空热处理温度和时间对制备出的薄膜物相成分影响很大,升高热处理温度和增加热处理时间都有利于VO2的生成,但温度过高或时间过长会导致薄膜表面严重挥发。通过优化确定制备VO2薄膜的热处理工艺为:将V2O5薄膜以0.5℃/min的升降温速度空气中350℃预热处理2h,然后以10℃/min的升降温速度在0.1Pa下550℃热处理10h。VO2薄膜的分析测试表明:薄膜纯度高,平均晶粒尺寸在20~30nm间,表面均匀平整,平均方差为5.59nm,在68℃时吸热,具有热致相变特性。对VO2薄膜的电学和7.5-14μm波段红外发射率的性能进行了研究,发现随着薄膜厚度的增加,突变特性也逐渐增强,到一定程度后稳定;厚度为600nm的VO2薄膜表现出优异的热致变色特性,68℃相变时,电阻突变量级在3.5左右,发射率突变量可达0.6。基于VO2的掺杂模拟计算,研究了掺Mo或W对VO2薄膜的影响。结果表明:随着掺Mo或W量的不断增加,相变温度不断降低,但电阻突变量级和发射率突变量比未掺杂时有所减小;掺Mo量(wt.%, MoO3:V2O5)为5%时,相变温度可降至45℃左右,掺W量(wt.%, Na2WO4?2H2O:V2O5)为4%时,相变温度可降至20℃以下。对VO2及其Mo掺杂、W掺杂薄膜不同温度条件下7.5~14μm的红外热图进行分析,发现VO2薄膜在温度增加时可主动控制自身辐射强度、降低其辐射温度;通过控制掺杂Mo或W的量可以调节VO2薄膜开始主动控制自身红外辐射强度的温度,可在室温水平上控制发射率。将VO2薄膜用于热红外伪装中,有望实现自适应伪装的效果。

全文目录


表目录  7-8
图目录  8-10
摘要  10-11
Abstract  11-13
第一章 绪论  13-23
  1.1 二氧化钒的结构与特性  13-15
    1.1.1 二氧化钒的晶体结构  13-14
    1.1.2 二氧化钒的热致变色特性  14-15
  1.2 二氧化钒薄膜的研究进展  15-19
    1.2.1 二氧化钒薄膜的制备  15-18
    1.2.2 二氧化钒薄膜的应用  18-19
  1.3 论文的选题和意义  19-21
  1.4 论文的研究目的和内容  21-23
第二章 实验方法  23-31
  2.1 技术路线  23
  2.2 主要试剂及仪器  23-24
  2.3 样品制备工艺  24-27
    2.3.1 溶胶配制  24-25
    2.3.2 基片清洗  25
    2.3.3 浸涂制膜  25-26
    2.3.4 热处理  26-27
  2.4 表征与测试方法  27-31
    2.4.1 厚度测试  27
    2.4.2 X 射线衍射分析  27
    2.4.3 形貌与能谱分析  27
    2.4.4 拉曼光谱测试  27
    2.4.5 热分析  27-28
    2.4.6 电学特性测试  28
    2.4.7 光学特性测试  28-31
第三章 二氧化钒薄膜制备工艺研究  31-59
  3.1 溶胶-凝胶工艺研究  31-42
    3.1.1 溶胶的配制  32-34
    3.1.2 溶胶的稳定性  34-36
    3.1.3 基片的选择  36-37
    3.1.4 浸涂工艺对薄膜厚度的影响  37-42
  3.2 热处理工艺研究  42-52
    3.2.1 热力学分析  42-45
    3.2.2 预热处理  45-47
    3.2.3 热处理温度的影响  47-50
    3.2.4 热处理时间的影响  50-52
    3.2.5 热处理工艺参数的优化  52
  3.3 二氧化钒薄膜的表征分析  52-59
    3.3.1 X 射线衍射分析  53
    3.3.2 X 射线光电子能谱分析  53-54
    3.3.3 Raman 光谱分析  54-56
    3.3.4 扫描探针分析  56
    3.3.5 扫描电镜分析  56-57
    3.3.6 热分析  57-59
第四章 二氧化钒薄膜热致变色特性研究  59-80
  4.1 二氧化钒薄膜电学特性研究  59-63
    4.1.1 相变特征值的确定方法  59-60
    4.1.2 电阻-温度曲线分析  60-62
    4.1.3 电阻突变机理  62-63
  4.2 二氧化钒薄膜热致变发射率特性研究  63-65
  4.3 二氧化钒薄膜相变温度的调节  65-76
    4.3.1 相变温度调节方法  65-66
    4.3.2 掺杂模拟计算  66-70
    4.3.3 掺钼对二氧化钒薄膜的影响  70-74
    4.3.4 掺钨对二氧化钒薄膜的影响  74-76
  4.4 二氧化钒薄膜的红外热图分析  76-80
    4.4.1 未掺杂二氧化钒薄膜的红外热图  76-77
    4.4.2 掺钼二氧化钒薄膜的红外热图  77-78
    4.4.3 掺钨二氧化钒薄膜的红外热图  78-80
第五章 结论与展望  80-83
致谢  83-84
参考文献  84-89
作者在学期间取得的学术成果  89

相似论文

  1. 钛酸盐光催化剂的制备及光催化分解水性能,O643.36
  2. 溶胶—凝胶AAO模板法制备ITO准一维纳米结构,TB383.1
  3. 钛酸锶钡铁电薄膜的制备及电热效应,TB383.2
  4. 基于共面传输线法的高温超导薄膜表面电阻的测试研究,O484.5
  5. Bi系Co基氧化物系热电陶瓷与薄膜制备,TQ174.7
  6. 掺铁SnO2陶瓷与薄膜的制备研究,TQ174.6
  7. LSGM电解质薄膜制备与电化学性能研究,TM911.4
  8. 铁、镧掺杂纳米TiO2的制备及光催化性能研究,O614.411
  9. 全降解聚乙烯地膜的制备与性能研究,TQ320.721
  10. 多层共挤流涎成形过程温度控制技术研究,TQ320.721
  11. 二维晶格失配外延铝薄膜结构弛豫的分子动力学模拟,O484.1
  12. 非晶硅薄膜晶体管在栅漏电应力下的退化研究,TN321.5
  13. 壁上有孔的二氧化硅空心球的制备,TB383.1
  14. 二氧化硅球腔微电极阵列以及复合磁性纳米氧化铁的制备与应用,TB383.1
  15. 聚酰亚胺/纳米二氧化硅杂化薄膜的制备和性能研究,TB383.2
  16. 硅球表面苯酚MIPs的制备及其在DGT技术中的应用,O621.2
  17. FBAR温度传感器研究,TP212.11
  18. 基于二氧化钒相变的二维可调带隙光子晶体,O734
  19. Ba0.8Sr0.2TiO3/CoFe2O4多铁薄膜的制备及性能研究,O484.1
  20. BiFeO3/Bi3.25La0.75Ti3O12双层多铁薄膜的制备及性能研究,O484.4
  21. 磁控溅射制备氮化铜薄膜及其掺杂研究,O484.1

中图分类: > 工业技术 > 一般工业技术 > 工程材料学 > 功能材料
© 2012 www.xueweilunwen.com