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TFT-LCD光刻产能提升的分析与研究

作　者: 周刚
导　师: 蒋益明; 向传义
学　校: 复旦大学
专　业: 材料工程
关键词: 产能光刻曝光对位模式
分类号: TN873.93
类　型: 硕士论文
年　份: 2011年
下　载: 58次
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内容摘要

液晶显示的广泛应用已经使其取代了阴极射线管(CRT),成为如今显示和电视设备的最主要的显示技术,丰富了人们的日常生活,并为信息的交流和传输做出了巨大的贡献。由于薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产线建设成本以及设备成本高企,生产制造过程需要很高的技术含量,因此需要投入非常大的资金和人力成本,为充分利用固有资源创造更多的价值,提升产能成为学术界和产业界需要研究的一个重要课题。本文首先介绍了TFT-LCD的发展及其构造和显示原理,简单介绍了液晶面板的制造过程；然后通过对阵列段、成盒段及模组段的生产流程分析,阐明TFT-LCD光刻是整个TFT-LCD生产制造流程中的技术核心及产能瓶颈；最后通过大量实验研究及技术分析,阐明了影响TFT-LCD光刻产能的因素包括光刻胶材料感度及涂布厚度、曝光灯照度、曝光对位模式和TFT-LCD基板传递时间等,通过对以上光刻材料、工艺、制造流程的优化,提升TFT-LCD瓶颈工序光刻的产能,进而提升整个TFT-LCD制造的产能。该研究成果在国内TFT厂进行推广将极大的提升国内TFT行业的盈利能力,为中国企业在全球日益激烈的显示领域竞争中赢得更广阔的发展空间。

全文目录

摘要  4-5
Abstract  5-6
引言  6-7
第一章绪论  7-11
  1.1 TFT-LCD发展历程简介  7
  1.2 TFT-LCD的基本构造与显示原理  7-9
  1.3 TFT-LCD市场现状及新技术发展动向  9-10
  1.4 本章小结  10-11
第二章 TFT-LCD的制造过程  11-23
  2.1 TFT-LCD制造流程概述  11-13
  2.2 TFT-LCD阵列段制造流程  13-18
  2.3 TFT-LCD成盒段制造流程  18-21
  2.4 TFT-LCD模组段制造流程  21-22
  2.5 本章小结  22-23
第三章 TFT-LCD光刻材料及工艺流程  23-42
  3.1 TFT-LCD光刻技术概述  23-24
  3.2 TFT-LCD光刻材料评估  24-28
  3.3 TFT-LCD光刻工艺流程  28-41
  3.4 本章小结  41-42
第四章 TFT-LCD光刻产能提升的分析与研究  42-59
  4.1 光刻工艺参数说明及产能提升概述  42-50
  4.2 导入高感度光刻胶对产能的影响  50-51
  4.3 降低光刻胶涂布厚度对产能的影响  51-53
  4.4 提高曝光灯照度对产能的影响  53-55
  4.5 优化曝光对位模式及减少ADC对位基板枚数对产能的影响  55-57
  4.6 优化基板传送时间对产能的影响  57-58
  4.7 本章小结  58-59
第五章论文总结  59-61
  5.1 主要结论  59-60
  5.2 研究展望  60-61
参考文献  61-62
致谢  62-64

TFT-LCD光刻产能提升的分析与研究

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