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顶发射OLED工艺中Ag反射膜蚀刻技术的研究

作　者: 田宏伟
导　师: 张群; 向传义
学　校: 复旦大学
专　业: 材料工程
关键词: OLED 复合膜层 ITOAg 蚀刻
分类号: TN383.1
类　型: 硕士论文
年　份: 2011年
下　载: 3次
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内容摘要

近年来,随着市场对产品分辨率、对比度、视角、响应速度等诸方面特性要求的提高,传统的LCD已经逐渐不能满足高端市场的要求。本世纪以来,OLED (Organic Light-Emitting Display)崭露头角,并由于它各方面的逐渐应用而使其为人们所熟知,被众多企业所看好。OLED目前有两种主流工艺,顶发射与底发射,顶发射OLED由于其高亮度、高开口率而有着巨大的优势。在阳极材料上,具有4.5eV-5.3eV的高功函数、性质稳定且透光的ITO透明导电膜,便被广泛应用于阳极。同时,高反射率的Ag及其合金成为反射层的首选材料。加上Ag底层的pixel层ITO,总共需要三层。为了降低制造成本,减少成膜工艺的复杂性,并减少由于多次曝光而造成的位置偏离风险,需要用尽量少的过程中完成对这几层的蚀刻工艺。在对镀膜工艺进行调整,微调其最上层及最下层ITO的膜厚及膜质,并对蚀刻条件进行调整后,可以做到可以接受的Taper角度及线宽损失。由此,可以在节省产能及提高工艺可靠性的前提下,做到可以接收的量产水准。

全文目录

摘要  3-4
Abstract  4-6
第一章 AMOLED简介  6-17
  1.1 OLED的发展历史  6-8
  1.2 中国OLED产业主要生产企业  8
  1.3 OLED显示原理  8-11
  1.4 OLED发光部分的构造  11-13
  1.5 AMOLED显示器的整体结构  13-14
  1.6 OLED显示器制造流程  14-17
第二章像素电极/反射层/ITO阳极相关的制造工艺  17-31
  2.1 PVD工艺  18-22
  2.2 光刻工艺  22-25
  2.3 湿刻工艺  25-31
第三章复合膜层蚀刻对于PVD成膜性能的要求  31-41
  3.1 OLED工艺对于膜层的要求  31-33
  3.2 提高复合膜层效果的PVD工艺改善  33-38
  3.3 复合膜层成膜相对于蚀刻工艺的改善  38-40
  3.4 复合膜层成膜条件的结论  40-41
第四章复合膜层湿刻条件的验证  41-56
  4.1 蚀刻药液的选择及试验室结果  41-49
  4.2 产线调试及结果  49-55
  4.3 总结  55-56
第五章论文总结  56-58
致谢  58-59
参考文献  59-60

顶发射OLED工艺中Ag反射膜蚀刻技术的研究

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