学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示

980nm半导体激光器腔面膜研究

作　者: 刘磊
导　师: 曲轶
学　校: 长春理工大学
专　业: 光学工程
关键词: 半导体激光器增透膜高反膜
分类号: TN248.4
类　型: 硕士论文
年　份: 2013年
下　载: 3次
引　用: 0次
阅　读: 论文下载

内容摘要

半导体激光器由于其体积小、寿命长等优点,近几年被广泛用于激光器泵浦光源、军事、工业及民生等领域。但是腔面膜抗损伤阈值低的问题限制了半导体激光器的发展。本论文阐述了半导体激光器的基本工作原理,为了解决腔面膜抗激光损伤阈值低的问题,对激光器前腔面采用A1203单层增透膜,后腔面采用Ti02和Si02组合的多层介质高反膜系,并对膜系的电场强度分布进行优化,使高折射率材料内电场强度降低,有效地提高半导体激光器的输出功率及损伤阂值。最后,分别对优化后膜系和未优化膜系的980nm LD进行对比分析。比较其P-I曲线,出光功率,阈值电流,斜率效率等激光器的重要参数,分析镀膜对其损伤阈值的影响。结果显示优化后膜系能有效的提高半导体激光器的输出功率并获得较高的增益。

全文目录

摘要  4-5
ABSTRACT  5-6
目录  6-8
第一章绪论  8-16
  1.1 半导体激光器  8-12
    1.1.1 半导体激光器的分类  8-9
    1.1.2 半导体激光器的应用  9-12
  1.2 光学薄膜  12-15
    1.2.1 光学薄膜的发展  12
    1.2.2 半导体激光器腔面膜  12-14
    1.2.3 薄膜制备技术  14-15
  1.3 论文主要内容  15-16
第二章基本理论  16-29
  2.1 半导体激光器的结构  16-24
    2.1.1 光增益理论  17-19
    2.1.2 阈值电流密度  19
    2.1.3 伏-安特性  19-21
    2.1.4 欧姆接触原理  21-24
  2.2 薄膜理论  24-29
    2.2.1 单层介质膜  24-25
    2.2.2 周期性多层薄膜基本理论  25-29
第三章膜系设计  29-37
  3.1 半导体激光器腔面膜设计要求  29-30
  3.2 薄膜材料的选择  30-31
  3.3 980nm半导体激光器腔面膜设计  31-37
    3.3.1 薄膜损伤机理  31-32
    3.3.2 电场强度的理论分析  32-33
    3.3.3 增透膜设计  33
    3.3.4 高反膜设计  33-37
第四章工艺制备  37-49
  4.1 设备介绍  37-43
    4.1.1 真空度介绍  38-39
    4.1.2 蒸发技术  39-41
    4.1.3 薄膜监控方法  41-43
  4.2 制备工艺  43-49
    4.2.1 实验步骤  43-44
    4.2.2 测试结果  44-49
总结  49-50
致谢  50-51
参考文献  51-52

980nm半导体激光器腔面膜研究

内容摘要

全文目录

相似论文