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晶圆升降机构关键技术研究
作 者: 李鹏
导 师: 崔继文
学 校: 哈尔滨工业大学
专 业: 仪器科学与技术
关键词: 升降机构 ANSYS分析 重复定位精度
分类号: TN405
类 型: 硕士论文
年 份: 2011年
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内容摘要
集成电路(IC)是电子信息产业发展的核心,IC制造装备是IC产业的最主要支撑。IC制造过程各种工艺前都需要进行晶圆的传输、定位和姿态调整。晶圆升降机构就是晶圆自动传输系统重要组成部分之一。其速度、重复定位精度将直接或间接影响IC的生产效率和制造质量。研究高精度、高速度、高稳定性的新型晶圆升降机构可以提高生产效率和制造质量,为IC制造提供有力保障。本文在分析晶圆升降机构的国内外发展概况和研究现状的基础上,结合国内外现有技术,主要对晶圆升降机构进行了结构全新设计;关键部件结构参数进行了性能分析优化;完成了控制系统的设计调试;机构关键的性能参数进行了实验研究。具体内容包括:1.从晶圆升降机构机理角度,分析了其功能与流程,提出了新型机构总体方案,完成了驱动系统、检测系统、真空吸附装置、空气静压装置具体结构设计,为了减小交接晶圆过程冲击力影响,机械结构上增加了簧片缓冲和防转装置。2.在机构设计基础上讨论其结构对性能的影响。从分析晶圆参数出发,对真空吸管位置和缓冲簧片尺寸进行了参数优化;运动部件和晶圆建立整体模型仿真分析;对空气静压装置进行了静力特性和振动模态分析,从仿真分析方面验证了结构设计满足性能要求。3.设计晶圆升降机构控制系统,确定了伺服系统和真空吸附系统的总体方案。完成了伺服系统构建以及真空吸附控制系统设计,通过调节伺服系统PID参数,改善系统性能,实现晶圆精确定位。4.依据激光测量位移原理建立了晶圆升降机构激光测量实验平台,进行了机构性能特性实验包括运动范围、最大速度、最大加速度实验,完成了关键位置的重复定位精度实验和分辨能力实验。实验表明,文中新型的300mm晶圆升降机构,可以实现行程18mm,最大速度81.38mm/s,最大加速度为7.91m/s2,重复定位精度为4.9um和分辨能力为1um,满足晶圆升降机构实际性能需求。
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全文目录
摘要 3-4 Abstract 4-8 第1章 绪论 8-15 1.1 课题背景及研究的目的和意义 8-9 1.2 国内外相关技术的发展现状及分析 9-13 1.3 课题研究主要内容 13-15 第2章 晶圆升降机构功能及机理分析 15-29 2.1 引言 15 2.2 晶圆升降机构流程及功能 15-16 2.2.1 晶圆升降机构流程 15 2.2.2 晶圆升降机构功能 15-16 2.3 晶圆升降机构总体方案设计 16-17 2.4 驱动系统 17-19 2.5 检测系统 19-21 2.6 真空吸附系统 21-23 2.7 空气静压系统 23-26 2.8 机械结构设计 26-28 2.8.1 簧片缓冲装置设计 26-27 2.8.2 防转装置设计 27-28 2.9 本章小结 28-29 第3章 晶圆升降机构的性能分析 29-42 3.1 引言 29 3.2 ANSYS概述 29-30 3.3 晶圆参数的分析 30-31 3.4 真空吸管结构优化 31-34 3.5 簧片变形分析 34-38 3.6 空气静压装置分析 38-41 3.6.1 装置建模和静力特性分析 38-40 3.6.2 装置振动模态分析 40-41 3.7 本章小结 41-42 第4章 晶圆升降机构控制系统的设计 42-53 4.1 引言 42 4.2 控制系统总体设计方案 42-43 4.3 伺服系统的组成 43-46 4.3.1 伺服系统 43-45 4.3.2 伺服系统的组建 45-46 4.4 伺服系统的调试 46-51 4.4.1 伺服系统PID控制 46-47 4.4.2 系统PID调试依据 47-48 4.4.3 系统ELMO控制器中的PID调试 48-51 4.5 真空吸附系统控制设计 51-52 4.6 本章小结 52-53 第5章 晶圆升降机构实验研究 53-65 5.1 引言 53 5.2 晶圆升降机构实验系统搭建 53-55 5.3 晶圆升降机构性能测试 55-56 5.4 晶圆升降机构重复定位精度实验 56-59 5.4.1 重复定位精度评价方法 56-57 5.4.2 重复定位精度实验分析 57-59 5.5 晶圆升降机构分辨能力实验 59-63 5.6 晶圆升降机构稳定性实验 63-64 5.7 本章小结 64-65 结论 65-66 参考文献 66-70 致谢 70
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中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 微电子学、集成电路(IC) > 一般性问题 > 制造工艺
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