学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示
压电厚膜驱动的变形镜技术研究
作 者: 马剑强
导 师: 褚家如
学 校: 中国科学技术大学
专 业: 精密仪器及机械
关键词: 自适应光学 变形镜 压电厚膜 MEMS 波前校正
分类号: TH74
类 型: 博士论文
年 份: 2012年
下 载: 228次
引 用: 0次
阅 读: 论文下载
内容摘要
自适应光学技术对波前畸变进行实时测量并校正,能够补偿诸如大气湍流等动态扰动的影响,获得接近系统衍射极限的分辨率。随着自适应光学技术的发展,已经在天文望远镜、视网膜成像、激光光束整形、光通信等领域得到应用。变形镜作为一种波前校正器,是自适应光学系统的核心部件。其中,基于压电驱动的变形镜以其大变形量、高带宽等优点受到研究者的青睐。本论文以PZT厚膜作为驱动材料,以研究低成本、低驱动电压、大变形量变形镜为目标,对压电厚膜MEMS变形镜和双驱动模式单压电片变形镜这两种变形镜进行研究。(1)压电厚膜MEMS变形镜研究。首先采用影响函数矩阵法研究变形镜参数对波前校正能力的影响,完善基于薄板理论和压电方程的电-机械耦合模型预测变形镜的变形行为。在此基础之上,对变形镜的结构参数如排列方式、致动器数目、影响函数、致动器尺寸、PZT/Si层厚度、镜面厚度等进行优化设计。研究压电厚膜MEMS变形镜的制作流程及关键工艺,采用研磨抛光技术实现高平整度硅基PZT的制备,成功研制满足波前校正要求的61单元变形镜样机。最后对变形镜样机进行测试,结果显示:100V工作电压获得约5μm的致动器变形量,一阶谐振频率为18kHz,16mm口径内PV幅值约为21μm,采用19单元和37单元对Zernike多项式像差进行重构,实验结果证明其具有较强的校正能力并适用于高阶像差的校正。(2)双驱动模式单压电片变形镜研究。该变形镜由两种类型致动器驱动:中心的致动器阵列用于校正波前像差,环形致动器用于产生整体偏置,只用正向驱动电压实现了双向波前校正能力。论文对其进行建模、优化、制备及测试。结果显示该变形镜的致动器变形量约为5μm@100V,最大离焦幅值为~15pm,初始镜面校平后优于λ/20RMS能够精确重构前5阶Zernike多项式面形,显示其优异的波前校正能力。该变形镜具有低成本、低驱动电压、大变形量等优势,具有在自适应光学中应用的潜力。(3)变形镜控制方法研究。研究基于波前反馈的控制方法,包括影响函数矩阵法和基于最速下降的闭环控制方法。通过影响函数方法实现变形镜初始镜面的校平,并重构Zernike多项式像差表征变形镜的波前校正性能。研究变形镜在光斑整形中的应用并搭建相应的实验装置。采用点扩散函数研究波前像差对光斑质量的影响。研究基于搜索算法(如模拟退火算法)的闭环反馈控制算法。经过变形镜对光束的校正,系统获得了按近衍射极限的聚焦光斑,为下一步应用奠定基础。基于以上研究,本论文在以下几个方面具有创新之处:(1)成功制备了满足波前校正要求的压电MEMS变形镜这一新类型变形镜,并对其校正性能进行表征;(2)提出了一种新型的双驱动模式单压电片变形镜,以正向驱动电压实现了双向波前校正能力;(3)搭建了基于泰曼-格林干涉仪的变形镜实验平台,可进行基于波前反馈和基于搜索算法的控制算法的实验研究。
|
全文目录
摘要 5-7 ABSTRACT 7-12 第1章 绪论 12-34 1.1 自适应光学 12-19 1.1.1 自适应光学原理 12-14 1.1.2 自适应光学发展历程 14-16 1.1.3 自适应光学应用 16-19 1.2 变形镜 19-31 1.2.1 变形镜结构形式 19-20 1.2.2 变形镜主要性能指标 20-21 1.2.3 典型变形镜结构分析 21-28 1.2.4 变形镜性能比较 28-30 1.2.5 国内变形镜技术发展现状 30-31 1.3 研究目的和意义 31-32 1.4 本论文内容及结构 32-34 第2章 压电厚膜MEMS变形镜设计 34-56 2.1 变形镜校正性能优化 34-40 2.1.1 压电厚膜MEMS变形镜 34-35 2.1.2 Zernike多项式 35-37 2.1.3 影响函数矩阵法重构面形 37-38 2.1.4 变形镜波前校正性能优化 38-40 2.2 变形镜结构参数优化 40-50 2.2.1 压电MEMS变形镜数值模型 40-45 2.2.2 致动器变形的解析与有限元比较 45-46 2.2.3 变形镜结构参数优化 46-50 2.3 变形镜设计总结 50-52 2.4 复合式致动器研究 52-54 2.4.1 复合式致动器工作原理 52 2.4.2 致动器应力分析 52-53 2.4.3 仿真及实验比较 53-54 2.5 本章小结 54-56 第3章 压电厚膜MEMS变形镜制备与表征 56-80 3.1 压电厚膜MEMS变形镜制备 56-62 3.1.1 制备工艺流程 56-58 3.1.2 关键工艺研究 58-60 3.1.3 变形镜样机 60-62 3.2 变形镜驱动电路制备 62-66 3.2.1 驱动电路方案设计 62-63 3.2.2 96通道驱动电源性能测试 63-66 3.3 变形镜性能表征方法研究 66-70 3.3.1 变形镜性能表征方法 66-67 3.3.2 四步移相法重构镜面形貌原理 67-68 3.3.3 镜面形貌测量实验 68-70 3.4 变形镜性能表征 70-78 3.4.1 致动器性能测试 70-75 3.4.2 镜面性能测试 75-78 3.5 本章小结 78-80 第4章 控制算法及校正性能研究 80-100 4.1 基于波前探测的控制方法 80-84 4.1.1 影响函数矩阵法 81-82 4.1.2 基于最速下降法的波前反馈闭环控制算法 82-84 4.2 变形镜校正性能分析 84-89 4.2.1 初始而形校正 84-86 4.2.2 Zernike多项式像差重构 86-89 4.3 光束整形研究 89-93 4.3.1 有像差系统的光学点扩散函数 89-91 4.3.2 变形镜光束整形能力仿真 91-93 4.4 基于搜索算法的控制方法 93-96 4.4.1 模拟退火算法 94-95 4.4.2 模拟退火算法校正仿真 95-96 4.5 光斑整形实验研究 96-99 4.5.1 光斑整形实验系统 96-97 4.5.2 实验结果及分析 97-99 4.6 本章小结 99-100 第5章 双驱动模式单压电片变形镜 100-122 5.1 双驱动模式单压电片变形镜 100-108 5.1.1 单压电片变形镜 100-102 5.1.2 单压电片变形镜设计 102-103 5.1.3 双驱动模式单压电片变形镜 103-105 5.1.4 双驱动模式单压电片变形镜模型 105-106 5.1.5 双驱动模式单压电片变形镜设计 106-107 5.1.6 有限元仿真设计 107-108 5.2 双驱动模式单压电片变形镜制备 108-110 5.3 变形镜性能表征 110-115 5.3.1 变形量表征 110-112 5.3.2 工作带宽表征 112-113 5.3.3 镜面质量表征 113-115 5.4 变形镜校正性能表征 115-119 5.4.2 Zernikc多项式重构 115-117 5.4.3 光斑校正性能表征 117-119 5.5 与国内外变形镜性能比较 119-120 5.6 本章小结 120-122 第6章 总结与展望 122-126 6.1 总结 122-123 6.1.1 本论文主要工作 122-123 6.1.2 本论文主要创新点 123 6.2 展望 123-126 6.2.1 压电厚膜MEMS变形镜 123-124 6.2.2 双驱动模式单压电片变形镜 124 6.2.3 变形镜的应用 124-126 参考文献 126-136 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 136-138 致谢 138
|
相似论文
- 多晶硅压力传感器模数转换电路设计,TP212.1
- 针对气体样品的微型质谱仪等离子体源的设计与制造,O539
- 低驱动电压RF MEMS电容式开关设计及分析,TM564
- 激光冲击波致动微泵的设计建模与研制,TH38
- MEMS加速度计温度场及残余应力模型研究,TH824.4
- 基于碳纳米螺旋的微气泡发生器的制备及性能研究,TP211.4
- 多梁支撑圆盘电容式微加速度计测控系统的研究,TH824.4
- 悬空结构的微型柔性热剪切应力传感器阵列研究,TP212
- 基于MEMS技术的视觉假体多通道刺激微电极阵列的研究,R318.1
- 基于MEMS工艺的PCR微流控系统的研制,TN492
- 六轴静电悬浮微加速度计的设计及系统级仿真,TH824.4
- MEMS微尺度有序增强复合材料的制备及力学性能表征,TB33
- 基于MEMS传感器的动作捕捉系统开发设计,TP212.9
- 基于MEMS工艺的微型磁通门传感器研究,TP212
- 六轴静电悬浮微加速度计的控制系统研究,TH824.4
- 主从结构的SPGD AO控制显示系统关键技术研究,O437
- 目标在回路自适应光学系统研究,TN249
- 随机并行梯度下降光束净化系统中的光束稳定技术研究,TP273
- 基于DSP的随机并行梯度下降自适应光学控制平台研究,O437
- 自适应光学图像复原算法研究,TP391.41
- 精密位相主动控制技术研究,TN248.1
中图分类: > 工业技术 > 机械、仪表工业 > 仪器、仪表 > 光学仪器
© 2012 www.xueweilunwen.com
|