学位论文 > 优秀研究生学位论文题录展示

脉冲磁控溅射法制备石英晶体谐振器的研究

作　者: 刘艳涛
导　师: 马剑平
学　校: 西安理工大学
专　业: 微电子学与固体电子学
关键词: 石英晶体谐振器 脉冲磁控溅射 溅射铝膜 铝膜厚度
分类号: TN752.2
类　型: 硕士论文
年　份: 2008年
下　载: 108次
引　用: 2次
阅　读: 论文下载
 

内容摘要


石英晶体谐振器是一种提供基准时基的器件。它具有极高的频率稳定度,常用来作为频率控制和频率基准,在军用通信装置和科研仪器设备中占有重要地位,而且在民用方面也得到了非常广泛的应用。石英晶体谐振器的制造工艺对谐振器的性能有着极大的影响,因此完善谐振器的加工工艺有着十分重要的意义。在石英晶体谐振器一般的生产工艺中,真空镀膜技术是对频率稳定度起着关键作用的生产步骤,而现阶段人们在制造过程中主要采用的是真空蒸发镀膜技术,该镀膜技术存在膜厚不易精确控制、淀积薄膜不均匀等诸多缺点,所以有必要对传统的制造方法加以改进,尝试用新的方法去提高石英谐振器的性能参数。本文分析了脉冲磁控溅射的基本原理,成功地在石英晶片上沉积了铝膜,对沉积速率与溅射工艺参数之间的关系作了深入的分析,以达到沉积一定厚度Al膜的目的。由于石英谐振器对电极薄膜的质量要求很高,要得到致密、平整的薄膜,必须严格控制溅射工艺参数。除此之外,对直流磁控溅射和脉冲磁控溅射两种情况下得到地Al膜的表面形貌,以及粗糙度作了比较。分析了石英谐振器薄膜电极与谐振器等效参数之间的关系,确立了电极的设计方法,深入分析了薄膜电极厚度与石英谐振器频率之间的关系。在此基础之上,利用脉冲磁控溅射法成功地实现了对石英谐振器频率的调整。

全文目录


相似论文

  1. 高功率复合脉冲磁控溅射等离子体特性及TiN薄膜制备,TG174.44
  2. ITO薄膜的制备及其性能研究,TB383.2
  3. 高功率脉冲磁控溅射注入与沉积技术研究及CrN薄膜制备,TG174.4
  4. 高功率脉冲非平衡磁控溅射法制备CrN_x膜和Cu膜及其沉积特性的研究,O484.1
  5. BMCC第二条生产线蒸铝工艺改进研究,TN141
  6. TiO_2薄膜的制备及其性能研究,TN304
  7. 基于磁控溅射技术的AT切石英晶体谐振器调频工艺研究,TN751
  8. 晶振生产自动化工艺关键技术研究,TN752.2
  9. 直流脉冲磁控溅射制备Mo薄膜及其性能研究,TM914.4
  10. 直流脉冲磁控溅射法制备SiN_x/SiN_xO_y薄膜及其性能研究,TN304.055
  11. 磁控溅射高频脉冲（A~2K）电源的研制,TN305.92
  12. 氮化铬薄膜制备及其摩擦学性能研究,TB43
  13. 绒面氧化锌薄膜的研究及其在太阳能电池上的应用,TM914.4
  14. 脉冲磁控溅射制备MgZrO复合介质膜的结构与性能,TB43
  15. 用于硅薄膜太阳电池的绒面ZnO透明导电膜的研究,TM914.4
  16. 闭合场非平衡脉冲磁控溅射沉积碳氮化铬薄膜结构与性能研究,O484.1
  17. 高性能恒温晶体振荡器温度控制系统的研究,TN752
  18. FBAR及其振荡器的研究,TN752
  19. 0.18μm CMOS工艺射频集成压控振荡器的研究与设计,TN752
  20. 4GHz低相噪微波介质振荡器的设计与研究,TN752
  21. X波段低相噪PDRO的设计与实现,TN752

中图分类: > 工业技术 > 无线电电子学、电信技术 > 基本电子电路 > 振荡技术、振荡器 > 振荡器 > 高频振荡器
© 2012 www.xueweilunwen.com