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应用于OPC的多边形匹配比较研究

作　者: 高晓莹
导　师: 史峥
学　校: 浙江大学
专　业: 电路与系统
关键词: 可制造性设计光学邻近校正分辨率增强技术多边形匹配比较
分类号: TN405
类　型: 硕士论文
年　份: 2007年
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内容摘要

随着集成电路的工艺发展到超深亚微米阶段，集成电路的复杂度越来越高，特征尺寸也变的越来越小。当集成电路的特征尺寸接近光刻机曝光的系统极限，即特征尺寸接近或小于光刻光源时，硅片上制造出的版图会出现明显的畸变。我们把这种现象称为光学邻近效应(OPE-Optical Proximity Effect)．为了应对光学邻近效应，工业界提出了分辨率增强技术(RET-Resolution Enhancement Technology)，减小设计版图与制造版图之间的误差。在光刻分辨率增强技术中，光学邻近校正(OPC-Optical Proximity Correction)已成为最重要的技术。光学邻近校正不是一个一次就能得到精确结果的过程，它是一个不断迭代的过程，需要多次验证修改。于是对已经做过OPC的版图(post-OPC版图)验证后的修正就逐渐成为提高OPC质量的必需步骤。传统的Post-OPC版图的修正需要对整个版图重做OPC，这样浪费了前次OPC的结果，而且可能会引入新的错误。于是业界提出了一种局部修正的办法——OPC平滑校正技术，充分利用前次OPC的结果，对出错点进行局部修正，以提高效率。本文研究的对象是原始版图(pre-OPC版图)和post-OPC版图中的图形。对版图中最基本的单元进行分析处理，力求得到能够优化OPC的算法。本文提出了一种用于post-OPC版图修正的多边形匹配比较的线性算法。算法通过比较pre-OPC和post-OPC的版图，提取OPC校正时的分段信息和段偏移量，使得post-OPC版图的修正能够充分利用前次OPC的结果，避免了重做OPC，提高了OPC验证后修正的效率。

全文目录

摘要  3-4
Abstract  4-7
第一章绪论  7-15
  1.1 集成电路的发展状况  7-9
  1.2 集成电路的设计技术  9-11
  1.3 集成电路的制造工艺  11-12
  1.4 集成电路的可制造性设计  12-13
  1.5 本文完成的工作及组织结构  13-15
第二章集成电路制造流程及工艺  15-22
  2.1 光刻工艺  15-16
  2.2 分辨率增强技术(RET)  16-19
  2.3 光学近校正(OPC)  19-20
  2.4 光学邻近校正的验证  20-22
第三章 POST-OPC平滑修正技术  22-29
  3.1 研究背景  22-23
  3.2 波纹效应  23-24
  3.3 一种新的Post-OPC修正方法──平滑修正技术  24-25
  3.4 设计流程  25-26
  3.5 设计软件环境  26-29
第四章多边形匹配比较算法的提出  29-32
  4.1 算法研究的对象  30
  4.2 算法研究的目标  30-31
  4.3 算法研究的应用  31-32
第五章多边形匹配比较算法步骤  32-45
  5.1 单个多边形对的匹配和比较  32-41
    5.1.1 算法设计流程图  33-34
    5.1.2 起点的匹配  34-36
      5.1.2.1 起点的匹配条件  34-35
      5.1.2.2 起点匹配模糊算法  35-36
    5.1.3 点的遍历及段偏移量比较  36-37
    5.1.4 进入下一个参考点的判断  37-38
    5.1.5 角段和边段创建法  38-40
    5.1.6 段始点选择  40-41
  5.2 两个版图之间的多边形匹配  41-45
    5.2.1 重心排序  42
    5.2.2 边界重叠判定  42-43
    5.2.3 重叠面积筛选  43-45
第六章算法实现及实验结果  45-54
  6.1 编码方式  45-46
  6.2 数据结构  46-47
  6.3 程序实现  47-48
  6.4 实验结果  48-53
    6.4.1 单个多边形对的匹配比较实验  49-52
    6.4.2 版图中多边形的匹配比较实验  52-53
  6.5 算法复杂度分析  53-54
第七章总结与展望  54-56
参考文献  56-58
致谢  58

应用于OPC的多边形匹配比较研究

内容摘要

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