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电子封装残余应力及器件热失效的光测实验和数值模拟研究

作　者: 孙建海
导　师: 王卫宁
学　校: 首都师范大学
专　业: 光学
关键词: 微电子封装残余应力三维云纹干涉测量有限元法
分类号: O348.1
类　型: 硕士论文
年　份: 2003年
下　载: 267次
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内容摘要

电子封装器件在生产的工艺过程中，往往会产生热残余应力以及焊接残余应力，残余应力的释放作用及器件在使用过程中的热变形，会降低集成电路芯片与封装体的结合强度，进而降低集成电路的电性能，反复的热循环，将导致器件的热疲劳失效，严重时可导致硅片或陶瓷片破裂，使整个器件遭到破坏。为降低器件封装的热应力，改善和提高产品的电热性能及可靠性，对集成电路封装的热变形及残余应力进行分析测试是十分重要的和必不可少的。为了详细研究试件的热变形特征以及残余应力的影响作用，本文在波前干涉理论的基础上，设计了一新型三维光学测试系统，该系统的平面位移测试基于云纹干涉方法，但采用与普通云纹干涉不同的光路系统，利用试件光栅和平面反射镜组形成的两次衍射，使平面位移干涉条纹倍增，测量灵敏度是普通云纹干涉的2倍，系统的离面位移场测试采用泰曼／格林干涉光路。整个系统具有构造新颖、便于调节、位移场条纹对比度高等特点。本文利用新型三维光学测试系统并结合盲孔释放和有限元数值模拟的方法，对F-1C电子封装试件进行了热变形和残余应力分析，掌握了试件的热变形特征、残余应力的分布规律及其影响作用，找到了试件失效的一些重要原因，为试件的改善提供了理论和实验支持。

全文目录

第一章绪论  7-14
第二章新型三维光学测试系统的设计和理论  14-20
  §2．1 三维云纹干涉测试系统  14-15
  §2．2 面内位移场的测量-位移条纹方程式  15-18
  §2．3 泰曼／格林干涉（Twyman/Green interferometry）  18-20
第三章实验  20-26
  §3．1 试件  20-21
  §3．2 试件的平滑处理及试件栅的转移  21
  §3．3 小孔释放法的原理及钻孔  21-24
    §3．3．1 小孔释放法的力学原理  22-23
    §3．3．2 小孔的钻取  23-24
  §3．4 实验的主要内容以及主要步骤  24-26
    §3．4．1 释放残余应力前，研究试件的热变形特征  24
    §3．4．2 小孔法释放残余应力，研究其分布规律及影响作用  24-26
第四章 F-1C热变形及残余应变三维实验测试结果及分析  26-34
  §4．1 试件的热变形特征  26-30
    §4．1．1 试件的平面位移  26-28
    §4．1．2 释放残余应力前试件的离面位移  28-29
    §4．1．3 试件截面的热变形  29-30
  §4．2 残余应力测试结果  30-34
    §4．2．1 室温下的残余应力释放测试  31-32
    §4．2．2 试件释放残余应力后的热变形  32-34
第五章有限元分析法  34-41
  §5．1 释放残余应力前的有限元分析  35-37
  §5．2 小孔释放残余应力后的有限元分析  37-41
第六章结论  41-43
致谢篇  43

电子封装残余应力及器件热失效的光测实验和数值模拟研究

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