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分布式印染机温度自适应控制系统的研究

作 者: 陈剑桥
导 师: 毛玉良
学 校: 东南大学
专 业: 机械电子工程
关键词: 自适应控制 内模控制 分布式系统 递推最小二乘算法
分类号: TS190.4
类 型: 硕士论文
年 份: 2006年
下 载: 171次
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内容摘要


本文在分析了印染机的结构特点、工作机理以及印染过程的工艺要求后,并结合前期的印染机单机控制技术数据,认为印染机是一个具有耦合的、参数慢时变的纯滞后系统,且主辅通道的延时时间不等。针对这一特点,采用广义最小方差控制,应用递推最小二乘算法进行参数辨识,实现了通道解耦和自校正控制;同时为进一步提高系统的性能,减小参数辨识误差对系统性能的影响,引入内模控制,将解耦后的等效模型视为一个纯滞后系统,与内部模型进行比较,根据模型误差进行控制作用的调节,增强了系统的鲁棒性。在实际应用中,根据生产企业对印染控制的要求,采用分布控制技术,上位机采用通用计算机(PC),下位机采用AVR单片机,通讯总线为RS485,其中利用上位机速度快、内存大、编程方便的特点,上位机中实现人机交互界面和参数辨识算法,下位机完成控制算法,发送采样数据并接受上位机的参数辨识结果,实现分布式自适应控制

全文目录


中文摘要  6-7
英文摘要  7-8
第一章 绪论  8-12
  1.1 背景  8
  1.2 国内外研究状况  8-9
  1.3 课题的研究意义  9
  1.4 课题的主要任务、内容和目标  9-12
第二章 印染机温度系统模型及辨识  12-18
  2.1 系统模型与辨识  12
  2.2 常用的辨识算法  12-14
  2.3 系统阶次的辨识和纯滞后的辨识  14-15
  2.4 闭环系统的辨识  15
  2.5 印染机生产过程与数学模型  15-17
  2.6 分布环境下印染机温度模型的在线辨识  17-18
第三章 印染机温度自适应控制方案的研究  18-27
  3.1 印染机温度系统的解耦  18-20
  3.2 内模控制  20-22
  3.3 分布环境下印染机温度自适应控制系统  22-24
  3.4 印染机温度控制系统的性能  24-25
    3.4.1 模型误差对控制性能的影响  24
    3.4.2 开关阀对控制性能的影响  24-25
    3.4.3 传输、计算延时对性能的影响  25
  3.5 系统的断开现象及对策  25-27
第四章 控制系统的算法仿真  27-34
  4.1 印染机温度系统的仿真模型  27-28
  4.2 系统参数的递推最小二乘辨识  28
  4.3 印染机温度控制系统的算法仿真  28-29
  4.4 参数估计误差对系统性能的影响  29
  4.5 印染机温度控制系统的自适应过程  29-34
第五章 分布式印染机温度自适应控制系统的设计  34-44
  5.1 分布式印染机温度控制系统的组成  34
  5.2 现场控制器算法与实现  34-40
    5.2.1 ATMEGA16 简介  34-35
    5.2.2 硬件电路设计  35-37
    5.2.3 下位机软件设计  37-40
  5.3 Modbus 通讯协议  40
  5.4 上位机的软件结构设计  40-41
  5.5 在线辨识算法与人机界面在主机上的实现  41-42
  5.6 MATLAB 半实物仿真  42-44
第六章 总结与展望  44-47
  6.1 总结  44
  6.2 展望  44-47
致谢  47-48
参考文献  48-49
攻读硕士学位期间论文及科研情况  49

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中图分类: > 工业技术 > 轻工业、手工业 > 纺织工业、染整工业 > 染整工业 > 一般性问题 > 机械与设备
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